ICS 81.040 Q.30 JC 备案号：34418—2012 中华人民共和国建材行业标雅 JC/T 2068--2011 镀膜玻璃生产规程 Specification for coated glass manufacture process 2011-12-20发布 2012-07-01实施 中华人民共和国工业和信息化部发布 JC/T2068—2011 前 言 本标准按照GB/T1.1一2009给出的规则起草。 本标准出中国建筑材料联合会提出。 本标准由全国建筑用玻璃标准化技术委员会（SAC/TC255)归口。 本标准负责起草单位：浙江中力控股集团有限公司、中国建筑玻璃与工业玻璃协会。 本标准参加起草单位：金晶(集团)有限公司、秦皇岛耀华玻璃股份有限公司、威海监星玻璃股份有 限公司、格兰特工程玻璃(中山)有限公司、信义玻璃工程（东莞)有限公司、上海北玻镀膜技术工业有限 公司、浙江东亚工程玻璃有限公司 本标准主要起草人：王烁、候英兰、张佰恒、李会、许武毅、李越、夏黎海、刘军波、龙霖星。 本标准为首次发布。 JC/T2068—2011 镀膜玻璃生产规程 1范围 本标准规定了镀膜玻璃生产的术语和定义、分类、材料、制作、成品检验以及包装、标志、运输和 存。 本标准适用于磁控溅射镀膜玻璃和在线化学气相沉积镀膜玻璃的生产。 2规范性引用文件 下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件，仅所注口期的版本适用于本文 件。凡是不注日期的引用文件，其最新版本（包括所有的修改单）适用于本文件。 GB/T728—1998锡锭 GB/T3620.1-~2007钛及钛合金牌号和化学成分 GB/T6382.1平板玻璃集装器具架式集装器及其试验方法 GB/T6382.2平板玻璃集装器具箱式集装器及其试验方法 GB/T20878—2007不锈钢和耐热钢牌号及化学成分 GB/T18915.1镀膜玻璃第1部分：阳光控制镀膜玻璃 GB/T18915.2镀膜玻璃第2部分：低辐射镀膜玻璃 JC/T513平板玻璃木箱包装 3术语和定义 下列术语和定义适用于本文件。 3.1 靶材sputteringtarget 被高速荷能粒了轰击的，可沉积或反应成膜的固体材料。 3. 2 磁控溅射镀膜magnetronsputteringcoating 真空环境中，在电场及磁场的作用下，靶材被气体辉光放电产生的荷能离子轰击，粒子从其表面 射出，在被镀基体表面沉积或反应成膜的工艺过程。 3. 3 镀膜前驱体coatingprecursor 含有构成薄膜成分的化学物质，可通过化学反应在高温基体表面形成膜层。 3. 4 化学气相沉积镀膜chemiealvapordepositioncoating 将镀膜前驱体施加到高温基体表面，在气相-固相界面发生化学反应，在基体表面沉积反应成膜的 工艺过程。 3.5 1 JC/T2068—2011 工艺气体processgas 磁控溅射过程中用于产生等离子体或发生特定化学反应的一种或儿种气休。化学气相沉积过程中镀 膜前驱体气体、反应气体及载体气体的总称。 3. 6 镀膜反应器 coatingreactor 在化学气相沉积镀膜过程中，将工艺气体喷射到基体表面的特定装置。 3. 7 阴极cathode 在磁控溅射镀膜工艺中，承载靶材实现磁控溅射的装置。装置内包括磁性材料、冷却装置、屏蔽装 置等。 3. 8 可热加工的镀膜玻璃heattreatablecoatedglass 指热加工后膜层性能稳定，各项指标仍符合相关国家标准或行业标准的镀膜玻璃。 4分类 4.1按产品性能分为阳光控制镀膜玻璃和低辐射镀膜玻璃。 4.2按生产工艺分为离线磁控溅射镀膜和在线化学气相沉积镀膜。 5材料 5.1磁控溅射镀膜玻璃生产所用材料 磁控溅射镀膜玻璃生产所用材料包括玻璃、靶材、工艺气体、保护膜、干燥剂等，各种材料均应符 合相应国家标准或行业标准的要求以及生产工艺要求。材料应有合格证，进口材料应有相关证明。 5.1.1玻璃 磁控溅射镀膜玻璃可选用平板玻璃、防火玻璃、钢化玻璃、夹层玻璃、半钢化玻璃、压花玻璃、超 白浮法玻璃等作为基体材料。 5.1.2靶材 磁控溅射镀膜工艺常用靶材可参见附录A。 5.1.3工艺气体 工艺气体包括高纯度的氩气、氮气、氧气等。 5.1.4其他材料 包括保护膜、干燥剂、隔离粉、珍珠棉、惰性气体等。 5.2化学气相沉积镀膜玻璃材料 化学气相沉积镀膜玻璃生产所用材料包括玻璃、镀膜前驱体、工艺气体等。各种材料均应符合相应 国家标准或行业标准的要求，尚无相应标准的材料应符合设计要求。材料应有合格证，进口材料应有相 关证明。 2 JC/T2068—2011 5.2.1玻璃 化学气相沉积镀膜玻璃可选用平板玻璃、超白浮法玻璃等作为材料。 5.2.2镀膜前驱体 化学气相沉积镀膜工艺常用的镀膜前驱体可参见附录B。 6制作 6.1般要求 6.1.1镀膜玻璃生产企业应具备满足生产要求的设备，并定期进行维护保养。 6.1.2镀膜玻璃生产企业应具备必要的量具和检测设备，并定期进行计量检定。应具备的膜层检测设 备有在线分光光度计、离线分光光度计、耐磨试验机和方块电阻测量仪。宜具备辐射率测定仪、红外分 光光度计、雾度仪、台阶仪、椭偏仪等。 6.1.3从事镀膜玻璃生产的作业人员，应具备相应的专业技能并经过安全操作培训，持证上岗。 6.1.4镀膜玻璃的生产应具备工艺操作规程、作业指导书、安全操作规程、应急方案等。 6.1.5磁控溅射镀膜的基片宜选用近期生产的玻璃，必要时应进行抛光处理。 6.1.6磁控溅射镀膜玻璃生产应具备上下片台、清洗机、磁控溅射装置、生产监控、在线检测、循环 冷却水系统、水处理系统等装置。 6.1.7磁控溅射镀膜工艺室的基础真空度宜优于5×10"Pa。 6.1.8镀膜面宜为玻璃的非锡面。 6.1.9清洗用去离子水电阻宜大了5M2。 6.2磁控溅射镀膜玻璃的制作 6.2.1生产工艺流程 生产工艺流程见图1。 上片 前清洗 镀膜 检测 包装 下片 后清洗 图1 磁控溅射镀膜玻璃生产工艺流程图 6.2.2生产前检查 生产前应进行如下检查： a）消洗用去离子水的电阻； b) 镀膜工艺室的真空度； c) 靶材配置； 工艺气体的种类、纯度、压力； d) e）冷却系统的工作状态； 3 JC/T2068—2011 f） 自动上、下片台装置和清洗机的工作状态： 生产监控装置、在线检测装置的工作状态； h) 磁控溅射阴极的工.作状态。 6.2.3上片 上片时应对玻璃的外观质量、尺寸、厚度、锡面朝向等进行检查。 6.2.4前清洗 消洗机的水温宜在35℃～45℃之间，最后一道清洗水应使用去离子水，清洗后的玻璃表面无划伤、 破角、水渍或残留水珠等缺陷，同时清洗玻璃的干燥风应经过滤处理，保证玻璃清洗后洁净、干燥。 6.2.5调试 根据标样设置适当的工艺参数，并进行生产试制，当试样符合以下各项指标时方可连续生产： a) 可见光透射比、可见光反射比、颜色值、颜色均匀性符合产品要求； 低辐射镀膜玻璃的辐射率符合产品要求； c) 耐磨性能符合产品要求； 可热加工的磁控溅射镀膜玻璃应进行热加工性能评估，热加工后满足可见光透射比、可见光反 (P 射比、颜色、颜色均匀性、辐射率、耐洗刷性等要求。 注：小空玻璃用材料包括玻璃、间隔材料、密封材料、干燥剂等，各种材料均应符合相应国家标准或行业标准的要 求，尚无相应标准的材料应符合设计要求。材料应有合格证，进口材料应有相关证明。 6.2.6生产过程监控 6.2.6.1应对工艺气体进行监控并保持稳定。 6.2.6.2应监控镀膜玻璃可见光透射比、可见光反射比、颜色、颜色均匀性、辐射率的检测值， 6.2.6.3应监控阴极的工作电压、电流、功率值。 6.2.6.4应观察阴极辉光处于稳定状态，山现异常应及时进行调整。 6.2.6.5应监控玻璃的传送过程处于稳定状态。 6.2.6.6应对产品按一定频次进行离线抽检。 6.2.7后清洗 为检查阳光控制镀膜玻璃外观质量，宜进行后清洗。 6.3在线化学气相沉积镀膜玻璃的制作 6.3.1生产工艺流程 生产工艺流程见图2。 4 JC/T2068—2011 镀膜前驱体 工艺气体 熔化 成型 在线镀膜 退火 检测 片 包装 废气处理 达标排放 图2在线化学气相沉积镀膜玻璃生产工艺流程图 6.3.2检测设备 生产企业应具备浮法玻璃生产线、镀膜系统及产品质量检测设备。 6.3.3标准样片 不同品种的镀膜玻璃应制作标准样片，测试膜层的光学、热学性能，将测试数据作为标样参数。 6.3.4生产准备工作 生产应进行如下准备工作： 浮法玻璃原片质量应达到镀膜工艺要求； b) 清理镀膜反应器、工艺管道等； c) 调整玻璃原板宽度、温度、拉引速度、气氛、退火工艺参数； (P 启动工艺气休配送装置，工艺气体指标达到镀膜要求； (a 启动镀膜系统冷却装置； f) 启动工艺气体、镀膜前驱体、气幕保护气加热装置； g) 启动废气处理装置； h) 将镀膜反应器置丁镀膜区工艺位置。 6.3.5 调试 6.3.5.1 将镀膜工艺气体导入镀膜反应器。 6.3.5.2连续镀膜开始后按照一定规则取样并测试，测试数据与标样参数对比。不符合要求时，应重 新调整工艺参数，直到符合要求方可作为合格产品生产。 6.3.5.3镀膜所产生废气要进行无害化处理，达到国家环保要求。 6.3.6生产过程监控 6.3.6.1 生产过程中要对镀膜工艺参数、锡槽工艺参数、退火工艺参数进行实时监控并做适当调整。 6.3.6.2 镀膜期间要周期性对镀膜反应器进行清扫。 6.3.6.3对镀膜玻璃各项性能进行检测： a）颜