ICS 21.140 J22 备案号：32124—2011 中华人民共和国机械行业标准 JB/T7369—2011 代替JB/T7369—1994 机械密封端面平面度 检验方法 Flatnesstestingmethodofmechanicalseal 2011-05-18发布 2011-08-01实施 中华人民共和国工业和信息化部发布 JB/T7369—2011 目 次 前言.. II 范用.. 2 术语和定义 2.1干涉图.. 2.2干涉光谱带（光带） 3 检验装置.. 检验程序.. 4 平面度测定值的判读 附录A（资料性附录）常见干涉光谱带图示例 附录B（资料性附录）推荐采用的检验装置结构示意简图 JB/T7369—2011 言 本标准按照GB/T1.1一2009给出的规则起草。 本标准代替JB/T7369—1994《机械密封端面平面度检验方法》，与JB/T7369—1994相比主要技术 变化如下： 修改了附录A。 本标准由中国机械工业联合会提出。 本标准由全国机械密封标准化技术委员会（SAC/TC491）归口。 本标准起草单位：合肥通用机械研究院。 本标准主要起草人：李小瓯、郑国运、沈宗沼、李香。 本标准所代替标准的历次版本发布情况为： JB/T7369—1994。 II JB/T7369—2011 机械密封端面平面度检验方法 1范围 本标准规定了机械密封端面平面度的术语和定义、检验装置、检验程序、平面度测定值的判读等内容。 本标准适用于采用单色光源的光学法检验机械密封环端面平面度。 2术语和定义 下列术语和定义适用于本文件。 2.1 干涉图 interferencefigure 光波干涉产生的干涉条纹（亮带或暗带）所组成的图形。 2.2 干涉光谱带（光带） interference spectral band 干涉图上的暗带。 3检验装置 3.1推荐使用的检验装置结构见附录B。 3.2光源应为单色光源，推荐使用钠光源。 3.3检验用光学平晶应为一级精度（其平面度应在0.02μm～0.10μm之间），光学平晶的直径应大于 被检密封环端面的外径。 3.4装置放置在干燥、洁净、避免振动干扰的工作间内。 3.5装置要有一定的保扩元件，避免光束直接照射到观察者的皮肤或眼晴。 3.6如果采用反光镜观察，应保证反光镜没有变形和失真。 4检验程序 4.1 检验时，环境温度应控制在（20土5）℃。 4.2打开平面度检测仪的电源开关，预热至灯管充分发光。 4.3清除被检密封环密封端面和光学平晶表面上的纤维、颗粒、油渍、水汽等污物，且使密封环密封 端面和光学平品表面不受损伤，并且保持这些表面在检验过程中不被再次污染。 4.4将被检密封环轻轻放置在光学平晶上（或将平晶轻轻放置在密封环上），使密封环端面和光学平 品紧密接触，出现干涉带，判读光谱带数时不应使其受到附加外力的作用。 4.5通过镜面观察密封端面的干涉图形（或透过光学平晶观察密封端面上的干涉图形），判读干涉光 谱带。 5平面度测定值的判读 5.1平面度测定值的判读按附录A的规定。每组图由左向右第2、3个为待测平面与平晶成楔形位干 涉图，其余4个为待测平面与平晶平行接触位干涉图。光带条数为线段AB穿过暗带的条数。对于附录 A未含的图形，判读者应在正确理解应用光干涉原理的基础上，参照附录A的图例进行判读。 2球形凸面和球形凹面确定方法如下： 5.2 1 JB/T7369—2011 a）观察干涉图由上向下移动眼晴，若干涉光谱带向圆心移动，则为球形凹面；若干涉光谱带向外 径移动，则为球形凸面。 b）用手指轻轻地在平品或密封环外边上加压，若干涉光谱带围着手指弯曲，则为球形凸面：若干 涉光谱带向手指外弯曲，则为球形凹面。 5.3平面度的测定值应按式（1）计算： 4=0.5N2.. (1) 式中： 4—平面度的测定值，单位为微米（μm）； N—干涉光谱带数： 1一一单色光波波长，单位为微米（μm）。 比如，月前常用的单色光源-钠光光波波长为入=0.6um，一条光带时，4为0.3μm，即平面度为 0.3 μm。 2 JB/T7369—2011 附录A （资料性附录） 常见干涉光谱带图示例 A.1 一条光带图示如图A.1所示。 O 图 A.2两条光带图示如图A.2所示。 图 A.2 JB/T7369—2011 A.3三条光带图示如图A.3所示。 图 A.3 A.4多条光带（>三条光带）图示如图A.4所示。 图 A.4