ICS31.030 CCSL90 中华人民共和国国家标准 GB/T43798—2024 平板显示阵列用正性光阻材料 测试方法 Testmethodofpositivephotoresistformanufacturingofflatpanel displayarray 2024-03-15发布 2024-10-01实施 国家市场监督管理总局 国家标准化管理委员会发布目 次 前言 Ⅲ ………………………………………………………………………………………………………… 1 范围 1 ……………………………………………………………………………………………………… 2 规范性引用文件 1 ………………………………………………………………………………………… 3 术语和定义 1 ……………………………………………………………………………………………… 4 测试条件 2 ………………………………………………………………………………………………… 4.1 环境条件 2 …………………………………………………………………………………………… 4.2 试剂材料 2 …………………………………………………………………………………………… 4.3 其他配套 2 …………………………………………………………………………………………… 5 测试项目 2 ………………………………………………………………………………………………… 5.1 胶膜云纹 2 …………………………………………………………………………………………… 5.2 曝光量 4 ……………………………………………………………………………………………… 5.3 曝光测试观察图形完整性 6 ………………………………………………………………………… 5.4 关键尺寸(CD) 6 ……………………………………………………………………………………… 5.5 残膜率 7 ……………………………………………………………………………………………… 5.6 固含量 8 ……………………………………………………………………………………………… 5.7 液体颗粒计数 9 ……………………………………………………………………………………… 5.8 粘度 10 ………………………………………………………………………………………………… 5.9 相对密度 11 …………………………………………………………………………………………… 5.10 水分质量分数 11 …………………………………………………………………………………… 5.11 金属杂质含量 11 …………………………………………………………………………………… 6 试验报告 13 ………………………………………………………………………………………………… ⅠGB/T43798—2024 前 言 本文件按照GB/T1.1—2020《标准化工作导则 第1部分:标准化文件的结构和起草规则》的规定 起草。 请注意本文件的某些内容可能涉及专利。本文件的发布机构不承担识别专利的责任。 本文件由全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC203)提出并归口。 本文件起草单位:京东方科技集团股份有限公司、上海彤程电子材料有限公司、中国电子技术标准 化研究院、阜阳欣奕华材料科技有限公司、江阴润玛电子材料股份有限公司、福建泓光半导体材料有限 公司。 本文件主要起草人:杨澜、程龙、吴怡然、赵俊莎、曹可慰、李琳、吴京玮、岳爽、李璐、戈烨铭、何珂、 曾成财、袁晓雷。 ⅢGB/T43798—2024 平板显示阵列用正性光阻材料 测试方法 1 范围 本文件描述了平板显示阵列用正性光阻材料的测试方法。 本文件适用于液晶显示器件、有机发光显示器件等显示阵列制造用正性光阻材料的性能测试。 2 规范性引用文件 下列文件中的内容通过文中的规范性引用而构成本文件必不可少的条款。其中,注日期的引用文 件,仅该日期对应的版本适用于本文件;不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用于 本文件。 GB/T23942 化学试剂 电感耦合等离子体原子发射光谱法通则 GB/T25915.1 洁净室及相关受控环境 第1部分:按粒子浓度划分空气洁净度等级 GB/T33087 仪器分析用高纯水规格及试验方法 GB/T37403 薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)用四甲基氢氧化铵显影液 GB/T39486 化学试剂 电感耦合等离子体质谱分析方法通则 3 术语和定义 下列术语和定义适用于本文件。 3.1 曝光量 exposureenergy 光阻材料单位面积吸收光能或其他辐照能的剂量。 注:用于衡量光阻材料对曝光的敏感程度,光学曝光中在给定的曝光光源强度条件下,通常通过曝光时间长短调整 曝光量。 3.2 基底片 substrate 用于光阻材料涂布的衬底材料。 注:本文件中基底片可以是单晶硅片、外延硅片,以及平板显示用玻璃片等。 3.3 前烘 softbake/prebake 光阻材料通过涂布过程后,通过烘箱或热板方式将光阻薄膜内溶剂挥发,形成曝光工艺过程所需胶 膜的过程。 3.4 后烘 hardbake 光阻材料经过涂布-前烘-曝光-显影后,通过烘箱或热板方式进行烘烤的过程。 注:将光阻薄膜内溶剂进一步挥发,以便用于后续工艺。 3.5 胶膜云纹 coatingfilmmura 因光阻材料的厚度或密度不均匀、光阻材料中存在异物、涂布工艺不稳定等原因造成胶膜表面形成 1GB/T43798—2024 的云纹状图案。 注:胶膜是指光阻材料经过涂布和前烘工艺后留在基底片上的光阻薄膜。 4 测试条件 4.1 环境条件 环境条件按下列要求进行: ———环境温度:23℃±2℃; ———相对湿度:30%~70%; ———洁净环境:应符合GB/T25915.1中规定的ISO5级及以上洁净环境。 4.2 试剂材料 测试中宜使用下列试剂材料: ———2.38%四甲基氢氧化铵,应符合GB/T37403相关规定; ———电阻率不小于18MΩ·cm高纯水,应符合GB/T33087相关规定; ———六甲基二硅氮烷,纯度不小于99.0%。 4.3 其他配套 测试中宜使用下列配套材料或设备: ———基底片:形状选用带切边圆形以及方形,大小采用平板显示阵列各世代尺寸; ———烘箱:温度范围40℃~200℃。 5 测试项目 5.1 胶膜云纹 5.1.1 测试原理 正性光阻材料在经过涂布和前烘后,因厚度不均匀,在胶膜云纹观察灯的光照条件下,胶膜表面会 呈现出云纹等形状。通过用胶膜云纹观察灯,将基底片在不同方向下倾斜10°~40°,可清晰观察到因厚 度不均匀出现的云纹。胶膜云纹通常为朝多方向放射状且多条纹路,颜色呈较明显色差。 5.1.2 测试设备 应使用下列设备进行测试: ———涂布烘烤机:具备旋转涂布或刮涂涂布方式的商用涂布烘烤机(旋涂转速要求10r/min~ 6000r/min,控制精度1r/min;刮涂行进速度要求10mm/s~200mm/s,控制精度 0.1mm/s),烘烤方式采用热板、烘箱或其他辐射加热(温度要求50℃~150℃); ———膜厚测定仪:测量范围不小于3μm,精度要求1nm; ———胶膜云纹观察灯:去除紫外线(波长不小于500nm)的观察灯,照度大于20lm。 5.1.3 测试步骤 胶膜云纹按照下列步骤测试。 a) 将测试仪器开机,并预热30min以上。 b) 将需要测试的正性光阻材料放置在实验室环境下恒温30min以上,确保与环境条件温度 相近。 2GB/T43798—2024