(19)国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202210529948.0 (22)申请日 2022.05.16 (71)申请人 日善电脑配件 （嘉善） 有限公司 地址 314100 浙江省嘉兴 市嘉善县惠民街 道长江路95号 (72)发明人 尹萌萌　杨新煌　徐斌　殷石见　 (74)专利代理 机构 杭州昱呈专利代理事务所 (普通合伙) 33303 专利代理师 雷仕荣 (51)Int.Cl. C25D 11/04(2006.01) G06F 16/21(2019.01) G06F 16/2455(2019.01) G06K 9/62(2022.01) (54)发明名称 一种基于光谱反射曲线的阳极氧化染料选 择方法及应用 (57)摘要 本发明公开了一种基于光谱反射曲线的阳 极氧化染料选择方法及应用， S10， 建立光谱反射 数据库； S20， 量测输入目标板光谱反射率曲线； S30， 自动检索染料主剂和辅剂。 本发明极大改善 人工选色、 调色过程中的依赖个人经验因素， 改 变原有人工目视比对选择染料， 多轮测试确认染 料的作业模式， 使颜色开发过程具备更高的效率 及稳定性； 本发 明可最终解决阳极颜色打样过程 的目标板与复刻板间同值 不同色问题。 权利要求书1页 说明书4页 附图1页 CN 114808074 A 2022.07.29 CN 114808074 A 1.一种基于光谱反射曲线的阳极氧化染料选择 方法， 其特 征在于， 包括以下步骤： S10， 建立 光谱反射数据库； S20， 量测输入目标板光谱反射 率曲线； S30， 自动检索染料主剂和辅剂。 2.根据权利要求1所述的一种基于光谱反射曲线的阳极氧化染料选择方法， 其特征在 于， 所述S10， 建立光谱反射数据库， 具体为用不同染料、 不同浓度、 不同L值的染料色卡建立 染料光谱反射 率曲线数据库。 3.根据权利要求2所述的一种基于光谱反射曲线的阳极氧化染料选择方法， 其特征在 于， 所述不同染料包括 不同染料厂 商的染料或同一厂 商的不同型号染料。 4.根据权利要求2所述的一种基于光谱反射曲线的阳极氧化染料选择方法， 其特征在 于， 所述不同浓度具体为同一染料的浓度在上 下各扩两个档次， 定义 为不同浓度。 5.根据权利要求2所述的一种基于光谱反射曲线的阳极氧化染料选择方法， 其特征在 于， 所述不同L值具体为同一染料同一浓度下， 将L值从0～100划分6个档， L值为在CIE标准 下， Lab色彩空间中， 表征颜色明暗的数值。 6.根据权利要求1所述的一种基于光谱反射曲线的阳极氧化染料选择方法， 其特征在 于， 所述S3 0， 自动检索染料主剂和辅剂， 具体包括以下步骤： S31， 线性拟合匹配， 计算线性相关系数， 保留相关系数R2≥85％的染料型号， 相关系数 R2是指线性拟合时， 对拟合优度的描述 量， 值越大表征两曲线越具有 线性相关性； S32， 视觉匹配。 7.根据权利要求6所述的一种基于光谱反射曲线的阳极氧化染料选择方法， 其特征在 于， 所述S32视觉匹配具体为计算 取D＝Dmin即为 主剂， 取Dmin后相邻一个型号染料为辅剂， 其中， λi是指光谱反射曲线中横轴波长， 为CIE标准观察者三刺激值曲线， K为比例 系数， Rmix( λi)指不同型号染料对应波长λi下光谱反射曲线， Rstd( λi)指目标板对应波长λi下 光谱反射曲线。 8.根据权利要求6所述的一种基于光谱反射曲线的阳极氧化染料选择方法， 其特征在 于， 所述S32视觉匹配具体为计算 取D＝Dmin即为 主剂， 取Dmin后相邻两个型号染料为辅剂1和辅剂2， 其中， λi是指光谱反射曲线中横轴波长， 为CIE标准观察者三刺激值曲线， K为比例 系数， Rmix( λi)指不同型号染料对应波长λi下光谱反射曲线， Rstd( λi)指目标板对应波长λi下 光谱反射曲线。 9.一种基于光谱反射曲线的阳极氧化染料选择方法的应用， 其特征在于， 在阳极氧化 后未染色封孔铝材的染料选择时， 采用权利要求1 ‑8之一所述的方法。 10.根据权利要求9所述的一种基于光谱反射曲线的阳极氧化染料选择方法的应用， 其 特征在于， 还在电解着色和/或微弧氧化中采用权利要求1 ‑8之一所述的方法。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 114808074 A 2一种基于光谱反射曲线的阳极氧化染料选择方 法及应用 技术领域 [0001]本发明属于自动筛选匹配染料技术领域， 涉及一种基于光谱反射曲线的阳极氧化 染料选择 方法及应用。 背景技术 [0002]随着社会发展科学进步， 铝合金材料得到越来越多的应用， 现有技术常采用阳极 氧化工艺， 以提高铝合金成品的耐用性和装饰性。 其中着色工艺直接 关系到最 终成品质量， 而染色工艺成功的关键在于染料主剂 &辅剂的选择及配比搭配。 目前氧化后染色工艺， 多采 用人工经验选色、 经验调色、 目视比色作业等， 染色过程极大依赖工程师经验水平， 使打样 速度、 目标板&复刻板匹配度、 同值不同色问题等存在极大不确定性。 针对染色工艺中染料 选择、 调色工艺， 急需研究更加科 学可靠不依赖经验主义的新工艺、 新方法。 发明内容 [0003]为解决上述问题， 本发明提供一种基于光谱反射曲线的阳极氧化染料选择方法， 包括以下步骤： [0004]S10， 建立 光谱反射数据库； [0005]S20， 量测输入目标板光谱反射 率曲线； [0006]S30， 自动检索染料主剂和辅剂。 [0007]优选地， 所述S10， 建立光谱反射数据库， 具体为用不同染料、 不同浓度、 不同L值的 染料色卡建立染料光谱反射 率曲线数据库。 [0008]优选地， 所述 不同染料包括 不同染料厂 商的染料或同一厂 商的不同型号染料。 [0009]优选地， 所述不 同浓度具体为 同一染料的浓度在上下各扩两个档次， 定义为不 同 浓度。 [0010]优选地， 所述不同L值具体为同一染料同一浓度下， 将L值从0～100划分6个档， L值 为在CIE标准下， Lab色彩空间中， 表征颜色明暗的数值。 [0011]优选地， 所述S3 0， 自动检索染料主剂和辅剂， 具体包括以下步骤： [0012]S31， 线性拟合匹配， 计算线性相关系数， 保留相关系数R2≥85％的染料型号， 相关 系数R2是指线性拟合时， 对拟合优度的描述 量， 值越大表征两曲线越具有 线性相关性； [0013]S32， 视觉匹配。 [0014]优选地， 所述S32视觉匹配具体为计算 取D＝Dmin即为主剂， 取Dmin后相邻一个型号染料为辅剂， 其中， λi是指光谱反射曲线中横轴 波长， 为CIE标准观察者三刺激值曲线， K为 比例系数， Rmix( λi)指不同型号染料对应波长 λi下光谱反射曲线， Rstd( λi)指目标板对应波长 λi下光谱反射曲线。说　明　书 1/4 页 3 CN 114808074 A 3