(19)国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202210916587.5 (22)申请日 2022.08.01 (71)申请人 中船重工汉光科技股份有限公司 地址 056000 河北省邯郸市开发区世纪大 街12号 (72)发明人 刘双相　王艳飞　李金刚　郝自鹏　 席海涛　 (74)专利代理 机构 北京艾纬铂知识产权代理有 限公司 16101 专利代理师 高会允 (51)Int.Cl. B08B 3/12(2006.01) B08B 1/00(2006.01) B08B 1/02(2006.01) B08B 3/02(2006.01)B08B 3/08(2006.01) B08B 3/10(2006.01) (54)发明名称 一种有机光 导鼓鼓基的清洗 工艺 (57)摘要 本发明涉及一种有机光导鼓鼓基的清洗工 艺， 属于有机光导鼓技术领域。 所述清洗工艺依 次包括清洗、 刷洗、 喷淋、 超声波清洗、 两次抛动 漂洗、 纯水中慢提拉以及 烘干处理工序， 清洗、 刷 洗、 喷淋以及超声波清洗中的清洗液均是由清洗 剂与纯水配制形成的且清洗剂的浓度依次降低， 清洗、 刷洗和喷淋选用电导率小于5μS/cm的纯 水， 超声波清洗和两次抛动漂洗选用电导率小于 2μS/cm的纯水， 纯水中慢提拉选用电导率小于 0.1μS/cm的纯水。 本发明所述清洗工艺方法简 单， 容易操作， 效率高， 而且基于所述清洗工艺清 洗的鼓基表面无损坏、 无异物、 无水渍残留， 能够 使OPC中各个涂层均匀涂在鼓基上， 有效提高了 OPC的粘接性和生产合格率。 权利要求书2页 说明书6页 CN 115351002 A 2022.11.18 CN 115351002 A 1.一种有机光 导鼓鼓基的清洗 工艺， 其特 征在于： 所述工艺包括以下步骤， (1)将外观完好的鼓基浸 入清洗液Ⅰ中进行清洗； (2)将毛刷紧贴清洗后的鼓基外壁， 使鼓基与毛刷同时旋转且旋转方向相反， 并向鼓基 外表面喷洒清洗液 Ⅱ， 利用毛刷对鼓基外壁进行刷洗； (3)利用高压高水柱的形式将清洗液 Ⅲ分别喷淋刷洗后的鼓基内壁、 外壁； (4)将喷淋后的鼓基浸 入清洗液 Ⅳ中进行超声 波清洗； (5)将超声清洗后的鼓基先后浸 入两个盛 有纯水的槽中分别进行 抛动漂洗； (6)将抛动漂洗后的鼓基浸入电导率小于0.1μS/cm的纯水中， 然后以不大于2m/min的 上升速度将鼓基慢提拉至水面； (7)将慢提拉后的鼓基烘干， 即完成鼓基表面的清洗 工艺； 其中， 清洗液 Ⅰ～Ⅳ均是由清洗剂与纯水配制形成的且清洗剂的浓度按清洗液编号顺 序增大依次降低， 清洗液 Ⅰ～Ⅲ中选用电导率小于5 μS/cm 的纯水， 清洗液 Ⅳ以及步骤(5)中 选用电导率小于2 μS/cm的纯水， 清洗剂选用PH＝9～13的碱性清洗剂， 步骤(1)～(7)均是在 100级净化的环境下进行的。 2.根据权利要求1所述的一种有机光导鼓鼓基的清洗工艺， 其特征在于： 清洗液 Ⅰ是由 清洗剂与电导率小于5 μS/cm的纯水按照5:95～10:90的质量比配制而成 的； 清洗液 Ⅱ是由 清洗剂与电导率小于5 μS /cm的纯水按照4:96～6:9 4的质量比配制而成的； 清洗液 Ⅲ是由清 洗剂与电导率小于5 μS/cm的纯水按照2.5:97.5～5:95的质量比配制而成的； 清洗液 Ⅳ是由 清洗剂与电导 率小于2 μS/ cm的纯水按照1.5:98.5～4:96质量比配制而成的。 3.根据权利要求1或2所述的一种 有机光导鼓鼓基的清洗工艺， 其特征在于： 清洗液 Ⅰ是 由清洗剂与电导率小于5 μS/cm的纯水按照5:95～10:90的质量比配制而成 的， 清洗温度为 40～80℃， 清洗时间为90～ 240s， 抛动速度为1～5m/mi n。 4.根据权利要求1所述的一种 有机光导鼓鼓基的清洗工艺， 其特征在于： 步骤(2)中， 毛 刷的刷毛材质为尼龙， 刷毛的直径为0.05～0.35mm， 刷毛长度为25～45mm， 在每平方厘米内 刷毛数量要求大于 500根， 刷毛呈螺 旋状分布。 5.根据权利要求1、 2或4所述的一种有机光导鼓鼓基的清洗工艺， 其特征在于： 毛刷旋 转速度为6 0～90rpm， 鼓基旋转速度为3 0～60rpm， 清洗液 Ⅱ喷洒流量为15～45L/mi n。 6.根据权利要求1或2所述的一种有机光导鼓鼓基的清洗工艺， 其特征在于： 先喷淋鼓 基的内壁， 再喷淋 鼓基的外壁； 其中， 喷淋鼓基内壁时鼓基不旋转， 鼓基内壁的喷淋压力为0.1～0.15MPa、 喷淋流量为 80～90L/min以及喷淋时间为15～20s； 喷淋鼓基外壁时鼓基旋转， 鼓基外壁的喷淋压力为 0.1～0.15MPa、 喷淋流量为80～90L/min以及喷淋时间为30～40s， 鼓基的旋转速度为30～ 60rpm。 7.根据权利要求1或2所述的一种有机光导鼓鼓基的清洗工艺， 其特征在于： 清洗液 Ⅳ 是由清洗剂与电导率小于2 μS/cm的纯水按照1.5:98.5～4:96配制而成的， 超声功率为0.5 ～5kW， 超声频率 为20～90kHz， 超声时间为140～180s。 8.根据权利要求1或2所述的一种有机光导鼓鼓基的清洗工艺， 其特征在于： 清洗液 Ⅳ 是由清洗剂与电导率小于2 μS/cm的纯水按照1.5:98.5～4:96配制而成的， 先在超声功率为 0.5～1.5kW以及超声频率为20～45kHz下超声20～40s， 再在超声功率为1.0～2.5kW以及超权　利　要　求　书 1/2 页 2 CN 115351002 A 2声频率为50～90Hz kHz下超声1 10～150s。 9.根据权利要求1或2所述的一种有机光导鼓鼓基的清洗工艺， 其特征在于： 步骤(5) 中， 每次抛动漂洗过程中， 抛动速度为1m/min～10m/min， 上下抛动距离为5cm～20cm， 抛动 周期数为6～ 20， 其中完成一次上升以及一次下降为 一个抛动周期。 10.根据权利要求1或2所述的一种有机光导鼓鼓基的清洗工艺， 其特征在于： 步骤(6) 中， 纯水的温度为40～70℃， 鼓基在纯水中上升之前与水面之间的最小垂直距离不小于 10cm， 以0.2 ～2m/min的上升速度将鼓基慢提拉至水面。权　利　要　求　书 2/2 页 3 CN 115351002 A 3