(19)国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202210852849.6 (22)申请日 2022.07.19 (71)申请人 北京化工大 学 地址 100029 北京市朝阳区北三环东路15 号 申请人 宁波长阳 科技股份有限公司 (72)发明人 王丹　唐彦楚　周玉波　蒲源　 陈哲　王洁欣　曾晓飞　乐园　 陈建峰　 (74)专利代理 机构 北京正理专利代理有限公司 11257 专利代理师 邹欢 (51)Int.Cl. C08J 5/18(2006.01) C08L 63/00(2006.01)C08K 9/04(2006.01) C08K 9/06(2006.01) C08K 3/22(2006.01) C08K 3/30(2006.01) C08K 3/32(2006.01) C08L 75/04(2006.01) (54)发明名称 一种显色增强的光学薄膜及其制备方法 (57)摘要 本发明公开一种显色增强的光学薄膜及其 制备方法。 本发 明首先公开了显色增强的光学薄 膜的制备方法， 包括： 将光扩散纳米粒子与改性 剂置于反应器内进行反应， 经离心得到改性光扩 散粒子； 将改性光扩散粒子分散于溶剂中， 加入 偶联剂， 得到含有双改性光扩散粒子的分散 液A； 将分散液A与量子点或染料混合均匀， 得到分散 液B； 将分散液B与成膜基材混合均匀， 蒸发去除 溶剂， 得到分散液C； 将固化剂加入分散液C中， 经 涂布固化得到光学薄膜。 进一步公开了上述方法 制备得到的光学薄膜。 本发明光学薄膜具有光学 性能强， 膜层整体厚度低、 成本低以及节能环保 的特点， 量子点复合膜的荧光强度增强了100％ ～170％， 涂料薄膜显色增强了10％～3 0％。 权利要求书2页 说明书6页 附图5页 CN 115403795 A 2022.11.29 CN 115403795 A 1.一种显色增强的光学薄膜的制备 方法， 其特 征在于， 包括如下步骤： 1)将光扩散纳米粒子与改性剂置 于反应器内进行反应， 经离心得到改性 光扩散粒子； 2)将改性光扩散粒子分散于溶剂中， 加入偶联剂， 得到含有双改性光扩散粒子的分散 液A； 3)将分散液A与量子点或染料混合均匀， 得到含双改性光扩散粒子和量子点或含双改 性光扩散粒子和染料的分散液B； 4)将分散液B与成膜基材混合均匀， 蒸发去除溶剂， 得到分散液C； 5)将固化剂加入分散液C中， 经涂布固化得到光学薄膜。 2.根据权利要求1所述的制备方法， 其特征在于， 所述反应器为超重力反应器、 旋转反 应器、 定‑转子反应器、 微通道反应器、 釜式反应器或静态混合反应器； 优选地， 所述反应器 为超重力反应 器。 3.根据权利要求1所述的制备方法， 其特征在于， 所述光扩散纳米粒子为金属氧化物类 光扩散纳米粒子和/或金属硫化物类光扩散纳米粒子； 优选地， 所述金属氧化物类光扩散纳 米粒子为未改性的TiO2、 ZrO2、 CeO2、 SiO2和ZnO中一种或多种的组合物， 所述金属硫化物类 光扩散纳米粒子为未改性的ZnS、 PbS和CdS中一种或者多种的组合物。 4.根据权利要求1所述的制备方法， 其特征在于， 所述光扩散纳米粒子与改性剂的质量 比为1:10～1: 50； 优选地， 当所述光扩散纳米粒子为金属氧化物类光扩散纳米粒子时， 所述 改性剂为乙酸、 丙酸、 丁酸、 辛酸、 己二酸、 乙二酸、 丙二酸、 丁二酸、 马来酸、 苯甲酸、 苯乙酸、 邻苯二甲酸、 对 苯二甲酸、 戊酸、 己酸、 癸酸、 硬脂酸、 软脂酸、 丙烯 酸、 月桂酸、 油酸、 柠檬酸、 酒石酸、 草酸、 苹果酸、 枸椽酸和抗坏血酸中一种或者多种的组合物； 当所述光扩散纳米粒 子为金属硫化物类光扩散纳米粒子时， 所述改性剂为巯基乙醇、 巯基丙醇、 巯基丁醇、 巯基 乙酸、 巯基丙酸、 巯基丁酸、 硫酚、 对二硫酚、 间二硫酚、 对甲苯硫酚、 间甲苯硫酚和邻甲苯硫 酚中一种或者多种的组合物。 5.根据权利要求1所述的制备方法， 其特征在于， 所述反应的时间为1～20h， 温度为20 ～100℃， 转速为500～2000rpm； 优选地， 所述离心的转速为3000～10000rpm， 时间为1～ 10min。 6.根据权利要求1所述的制备方法， 其特征在于， 所述偶联剂为标号为KH550、 KH551、 KH560、 KH561、 KH5 70、 KH571、 KH580、 KH590的硅烷偶联剂中一种或者多种的组合物； 优选地， 所述偶联剂与改性光扩散粒子的质量比为 1:5～1:20； 更优选地， 所述溶剂为苯、 甲苯、 对二 甲苯、 甲醇、 乙醇、 丙醇、 异丙醇、 正丁醇、 2 ‑丁醇、 乙二醇、 丙三醇、 氯仿、 二甲基亚砜、 乙酸乙 酯、 正己烷、 甲基丙烯酸、 甲基乙基酮、 四氢呋喃和水中一种或者多种的组合物； 最优选地， 所述改性 光扩散粒子与溶剂的质量比为1:1～1:20 。 7.根据权利要求1所述的制备方法， 其特征在于， 所述量子点为核壳结构的CdSe、 InP、 PbS、 CISxSe(1‑x)以及钙钛矿量子点和碳点中一种或者多种的组合物； 所述染料为丙烯酸酯 染料、 有机硅染料、 环氧树脂染料和聚氨酯染料中一种或者多种的组合物； 优选地， 所述量 子点占光学薄膜总质量的0.1wt％～5wt％； 优选地， 所述染料占光学薄膜总质量的10wt％ ～30wt％。 8.根据权利要求1所述的制备方法， 其特征在于， 所述成膜基材为有机硅树脂、 环氧树 脂、 丙烯酸树脂和聚氨酯中一种或者多种的组合物； 优选地， 所述双改性光扩散粒子占光学权　利　要　求　书 1/2 页 2 CN 115403795 A 2薄膜总质量的0.1wt％～30wt％； 更优选地， 所述蒸发用的仪器为旋转蒸发仪、 鼓风干燥器 或蒸馏仪； 最优选地， 所述蒸发的真空度为0～0.1MPa， 温度为20～80℃， 时间为5～3 0min。 9.根据权利要求1所述的制备方法， 其特征在于， 所述固化剂为多元胺类固化剂、 酸酐 类固化剂、 聚酚类固化剂和聚硫醇类固化剂中一种或者多种的组合物； 优选地， 所述固化剂 与成膜基材的质量比为0:1～1:1； 更优选地， 所述固化的温度为80～200℃， 时间为1～4h； 最优选地， 所述涂布的方法为刮刀涂布法、 辊涂法、 流延涂布法或旋转涂布法。 10.权利要求1 ‑9任一所述的制备 方法制备 得到的光学薄膜。权　利　要　求　书 2/2 页 3 CN 115403795 A 3