(19)国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202210870693.4 (22)申请日 2022.07.23 (71)申请人 深圳市永霖科技有限公司 地址 518000 广东省深圳市龙华区观湖街 道樟溪社区下围工业区一路10号智谷 B栋222 (72)发明人 汤庭滨　雷近勇　樊小安　张明安　 (74)专利代理 机构 北京维正专利代理有限公司 11508 专利代理师 杨童 (51)Int.Cl. C08G 18/66(2006.01) C08G 18/42(2006.01) C08G 18/48(2006.01) C08G 18/32(2006.01)C08G 18/76(2006.01) C08K 9/06(2006.01) C08K 3/22(2006.01) C08K 3/38(2006.01) B24B 37/24(2012.01) (54)发明名称 一种TPU研磨垫及其制备方法 (57)摘要 本申请涉及一种TPU研磨垫及其制备方法， 其特征在于， 其原料按照质量分数比， 包括A和B 两组组分： A组： 聚酯多元醇80~90份； 扩链剂15~ 20份； 交联剂10~15份； 催化剂1~2份； B组： 二异氰 酸酯60~70份； 聚醚多元醇60~80份； 抛光磨料2 0~ 40份； 溶剂15~25份。 本申请中通过采用TPU研磨 垫， 其是通过TP U聚合物与抛光磨料进行复合， 通 过高硬度的抛光磨料提高研磨垫的磨削能力， 通 过TPU聚合物使得其具有一定的弹性， 从整体上 而言， 可以提高TPU研磨垫的磨削能力同时降低 表面划伤提升加工效率。 本申请中TPU研磨垫引 入了双季四戊醇作为交联剂， 在不影响TPU研磨 垫的硬度的同时使其形成网络结构， 从而提升其 耐磨性能。 权利要求书2页 说明书8页 附图1页 CN 115232282 A 2022.10.25 CN 115232282 A 1.一种TPU研磨垫， 其特 征在于， 其原料按照质量分数比， 包括A和B两组 组分： A组： 聚酯多元醇  80~90份； 扩链剂  15~20份； 交联剂  10~15份； 催化剂  1~2份； B组： 二异氰酸酯  60~70份； 聚醚多元醇  60~80份； 抛光磨料  20~40份； 溶剂  15~25份。 2.根据权利要求1所述的TPU研磨垫， 其特征在于， 所述的A组组分中： 聚酯多元醇为聚 己内酯二多元醇、 聚乙二酸己二醇酯二醇中的至少一种， 聚酯多元醇的分子量为1000~ 3000； 扩链剂为1,4 ‑丁二醇、 乙二醇中的至少一种； 交联剂为双季四戊醇； 催 化剂为有机铋、 辛酸亚锡和钛 酸四丁酯中的一种。 3.根据权利要求1所述的TPU研磨垫， 其特征在于， 所述B组组分中二异氰酸酯为二苯甲 烷二异氰酸酯(MDI)、 甲苯二异氰酸酯(TDI)中至少一种； 聚醚多元醇为聚四氢呋喃醚二醇 和聚醚二醇中的至少一种； 抛光磨料为氧化铝、 氧化锆和碳化硼中的至少一种， 抛光磨料的 平均粒径为5 00nm~3um； 溶剂为甲苯、 二甲苯和氯苯中的至少一种。 4.根据权利要求1所述的TPU研磨垫， 其特征在于， 所述的抛光磨料是经过改性后的抛 光磨料， 其改性方法， 包括 以下步骤： 将抛光磨料加入到有机溶剂中， 形成分散液， 接着在 10000~12000rpm的转速下和氮气气氛下， 向分散液中加 入带氨基的表面活性剂， 然后升温 至反应温度进行反应， 反应结束后， 过 滤， 洗涤后， 得到改性后的抛光磨料。 5.根据权利 要求4所述的TPU研磨垫， 其特征在于， 所述的有机溶剂为苯、 甲苯、 二甲苯、 氯苯中的一种； 抛光磨料在有机溶剂中的浓度为80~90g/L； 带氨基的表面活性剂为3 ‑氨基 丙烷三乙氧基硅、 N ‑(2‑氨基‑乙基)‑3‑氨基丙烷三乙氧基硅、 3 ‑氨基丙烷三甲氧基硅和N ‑ (2‑氨基‑乙基)‑3‑氨基丙烷三甲氧基硅中的一种； 抛光磨料与带氨基的表 面活性剂的质量 比为1:(3~5)； 加热温度为6 0~80℃， 反应时间为15~30h。 6.根据权利要求1所述的TPU研磨垫， 其特征在于， 所述的B组组分中还包括有2~5份的 氮化硼纳米管和1~2份的硬脂酸。 7.根据权利 要求1所述的TPU研磨垫， 其特征在于， 所述的TPU研磨垫中， 还包括有C组组 分， C组组分按照重量份数比； 包括以下组分： 亚磷酸三 （1,2,  2,6,6‑五甲基‑4‑羟基哌啶） 酯 1~2份， 生育酚1~3份。 8.根据权利要求1~7中任意一项所述的TPU研磨垫的制备 方法， 包括以下步骤： S1： 将A组组分按照比例进行混合， 接着在加热和搅拌条件下进行反应， 反应完毕后， 抽 真空至‑0.1MPa真空脱水至无气泡产生， 得到A组 组分； S2： 将B组组分中除了抛光磨料的以外的组分进行混匀， 接着加热至溶解， 在搅拌+超声 条件下， 加入抛光磨料， 混匀后， 抽真空至 ‑0.1MPa真空脱水至无气泡产生， 得到B组 组分； S3： 将模具放置在平板硫化机上预热， 将步骤S1中的A组组分和步骤S2中B组分进行预 热， 预热完毕后， 按比例混合均匀后， 然后倒入模具中， 在然后将模具送入平板硫化机进行 熟化， 熟化完毕后， 脱模， 即得TPU研磨垫 。 9.根据权利 要求8所述的TPU研磨垫的制备方法， 其特征在于， 所述步骤S1中， 加热温度 为100~120℃， 反应时间为1~2h； 所述步骤S2中， 加热至温度为80~90℃， 搅拌速度为4000~ 5000rpm； 所述步骤S3中， 平板硫化机的预热温度为50~70℃， 预热时间为15~25min； A和B组 分的预热温度为 40~50℃， 熟化的温度为5 0~70℃， 熟化时间为0.5~1.5h。 10.根据权利 要求8所述的TPU研磨垫的制备方法， 其特征在于， 所述的TPU研磨垫含有C 组分时， 只需将C组分混匀后加热至60~80℃溶解， 与步骤S3中的A组组分和B 组组分混匀加权　利　要　求　书 1/2 页 2 CN 115232282 A 2入到模具中即可。权　利　要　求　书 2/2 页 3 CN 115232282 A 3