(19)国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202211125101.2 (22)申请日 2022.09.13 (71)申请人 深圳市志凌伟业 光电有限公司 地址 518000 广东省深圳市龙华区观澜街 道大富社区大富工业区11号鹏龙蟠高 科技园B栋厂房3 01、 401 (72)发明人 苏伟　陆永荣　刘洁　 (74)专利代理 机构 北京汇捷知识产权代理事务 所(普通合伙) 11531 专利代理师 于艳萍 (51)Int.Cl. B23K 26/362(2014.01) B23K 26/70(2014.01) (54)发明名称 一种激光蚀刻装置及其方法 (57)摘要 本发明涉及激光蚀刻技术领域， 具体为一种 激光蚀刻装置， 包括有机架板， 机架板设置有两 块， 两块机架板之间安装有清洗槽， 清洗槽的两 侧壁上开设有过料口， 清洗槽的两端设置有传料 辊， 传料辊连接有传料电机， 机架板的外侧壁上 设置有储水箱， 清洗槽内部安装有两组清洗机 构， 清洗槽的内部中间安装有内板。 激光蚀刻方 法， S1： 创建光掩膜； S2： 在基板上形成薄膜； S3： 光刻胶涂层； S4： 曝光和开发； S5： 蚀刻； S6： 电阻 的去除。 在对金属薄膜进行清洗的时候， 通过两 组清洗机构清洗， 其中一组清洗机构在进行初步 清洗的时候利用的是回收水， 避免了全部使用一 次用水， 这样可以大大提高水资源的利用， 从而 节约了成本 。 权利要求书2页 说明书4页 附图3页 CN 115446463 A 2022.12.09 CN 115446463 A 1.一种激光蚀刻装置， 包括有机架板(1)， 其特征在于： 所述机架板(1)设置有两块， 两 块机架板(1)之间安装有清洗槽(8)， 所述清洗槽(8)的两侧壁上开设有过料口(9)， 清洗槽 (8)的两端设置有传料辊(6)， 所述传料辊(6)连接有传料电机(7)， 所述机架板(1)的外侧壁 上设置有储 水箱(4)， 所述清洗槽(8)内部安装有两组清洗机构， 所述清洗槽(8)的内部中间 安装有内板(10)， 所述内板(10)上设置有滤板(11)， 所述内板(10)上表面安装有除杂机构， 所述滤板(1 1)的一端连接有凸块(18)， 所述凸块(18)连接有回流机构。 2.根据权利要求1所述的一种激光蚀刻装置， 其特征在于： 所述清洗机构包括有两块固 定在机架板(1)两侧内壁中的安装块(2)， 两块安装块(2)之间设置有两排喷液管(3)， 喷液 管(3)上设置有若干个喷头， 其中一组清洗机构中的安装块(2)连接有第一输液管(5)， 第一 输液管(5)和储水箱(4)内部的第一泵机相连接 。 3.根据权利要求1所述的一种激光蚀刻装置， 其特征在于： 另外一组所述清洗机构中的 安装块(2)连接有第三输液管(30)， 第三输液管(30)连接有第三泵机， 第三泵机安装在清洗 槽(8)的内底面。 4.根据权利要求1所述的一种激光蚀刻装置， 其特征在于： 所述除杂机构包括有设置于 滤板(11)两侧的侧轨(12)， 两条侧轨(12)之间设置有活动板(13)， 活动板(13)的两端设置 有嵌入侧轨(12)内部的滑动块， 侧轨(12)的内部设置有贯穿滑动块的丝杆(16)， 且丝杆 (16)和滑动块 通过内外配合螺纹连接， 丝杆(16)连接有驱动电机(17)。 5.根据权利要求4所述的一种激光蚀刻装置， 其特征在于： 所述活动板(13)的底端一侧 设置有斜面， 斜面上设置有一排喷液嘴(14)， 活动板(13)连接有第二输液管(15)， 第二输液 管(15)为软 管， 且第二输液 管(15)和安装在清洗 槽(8)内底面的第二泵机相连接 。 6.根据权利要求1所述的一种激光蚀刻装置， 其特征在于： 所述凸块(18)侧壁上设置有 收集槽， 收集槽的内部设置有 若干落料口(19)。 7.根据权利要求1所述的一种激光蚀刻装置， 其特征在于： 所述 回流机构包括有导流管 (20)， 导流管(20)贯穿机架板(1)的侧壁， 机架板(1)的外侧壁上设置有回收箱(21)， 回收箱 (21)的顶面滑动设置有顶板(22)， 顶板(22)底面上安装有底柱(23)， 底柱(23)上滑动套接 有滑套(24)， 底柱(23)的底部设置有底板， 滑套(24)和底板之间设置有弹簧(25)， 滑套(24) 的侧壁上设置有两组挂环(26)， 导流管(20)的端部下方设置有收集箱(27)， 收集箱(27)的 下端为滤网结构， 收集箱(27)的侧壁上设置有挂钩(28)， 挂钩(28)插接在挂环(26)内， 回收 箱(21)的底部安装有回流管(29)， 回流管(29)贯穿机架板(1)的侧壁并延伸至清洗槽(8) 内。 8.一种根据权利要求1 ‑7任一条所述的激光蚀刻方法， 其特 征在于： 包括以下步骤： S1： 创建光掩膜， 光掩膜是一种玻璃板， 其掩膜图案用于屏蔽要曝光的部分以外的区 域， 通过蚀刻玻璃板上形成的屏蔽薄膜(如铬)来绘制掩膜图案， 电路的光掩膜使用电子束 等形成10um级的精细布线图案； S2： 在基板上形成薄膜， 在基础基板上形成用于布线等的金属薄膜,除了玻璃和硅片 外， 基板还使用薄薄膜材料， 如PET、 P C和COP金属薄膜的形成是通过真空沉积或溅射等进 行 的； S3： 光刻胶涂层， 在金属薄膜上形成感光膜(光刻胶)， 光刻胶包括液体电阻和片状干 膜， 根据要蚀刻的薄膜类型和所需图案的精度进行区分；权　利　要　求　书 1/2 页 2 CN 115446463 A 2S4： 曝光和开发， 通过光掩膜对光刻胶照射(曝光)紫外线， 光刻胶的曝光部分变质， 从 而转移掩膜图案， 此外， 通过去除显影液中不需要的电阻膜,形成电阻图案， 电阻含有两种 类型， 负型和正型， 负型的为非曝光部分， 正型的 曝光部分被显影剂溶解； S5： 蚀刻， 蚀刻溶液可去除电阻图案的未覆盖部分， 蚀刻溶液根据材料和所需的蚀刻条 件进行各种选择和使用； S6： 电阻的去除， 去除 电阻通过洗涤完成， 金属薄膜蚀刻后被传料辊(6)传送至清洗槽 (8)内， 第一泵机将储 水箱(4)内的水通过第一输液管(5)注入喷液管(3)内， 喷液管(3)上的 喷头可向被金属薄膜进 行冲洗， 使之表面的电阻膜被冲洗， 水流携带着电阻膜杂质下落， 杂 质留在滤板(11)上， 经过滤的水积在清洗槽(8)的下方， 第三泵机可将积水输入另一组清洗 机构中， 这 一组清洗 机构可对金属薄膜进行初步清洗 。权　利　要　求　书 2/2 页 3 CN 115446463 A 3