(19)国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202211207513.0 (22)申请日 2022.09.30 (71)申请人 湖北三江航天万峰科技发展 有限公 司 地址 432000 湖北省孝感市北京路5 6号信 箱 (72)发明人 蒋国壮　周奂斌　王明博　王超　 李爽　胡冬粤　周辉　张正洋　 (74)专利代理 机构 武汉东喻专利代理事务所 (普通合伙) 42224 专利代理师 肖康 (51)Int.Cl. B23K 26/362(2014.01) B23K 26/064(2014.01) B23K 26/70(2014.01)G03F 7/20(2006.01) (54)发明名称 一种高精度的DMD激光光刻印制电路的方 法、 设备和装置 (57)摘要 本发明公开了一种高精度的DMD激光光刻印 制电路方法， 包括： 将面阵激光光束经过数字微 镜器件反射后投射至基板形成蚀刻光斑， 蚀刻光 斑沿第一方向和与第一方向垂直的方向纵横排 列； 控制数字微镜器件偏转一定角度， 使数字微 镜器件反射的光束投射至所述基板上与第一方 向的夹角θ为锐角； 控制基板沿与所述第一方向 移动， 使面阵激光光束对基板进行连续扫描； 控 制数字微镜器件中微反射镜单元的翻转状态， 使 微反射镜单元随着所述基板的移动连续投射面 阵激光光束至基板形成蚀刻光斑， 重复该步骤直 至基板上形成预设的光刻图案。 本发 明公开的高 精度的DMD激光光刻印制电路方法， 可以有效提 高激光光刻印制电路的精度， 精度可调范围光， 方法简单易形。 权利要求书2页 说明书6页 附图2页 CN 115446468 A 2022.12.09 CN 115446468 A 1.一种高精度的DMD激光 光刻印制电路方法， 其特 征在于， 包括： 将面阵激光光束经过数字微镜器件反射后投射至基板形成蚀刻光斑， 所述蚀刻光斑沿 所述第一方向和与所述第一方向垂直的方向纵横排列； 控制所述数字微镜器件偏转一定角度， 使所述数字微镜器件反射的光束投射至所述基 板上与所述第一方向的夹角 θ 为锐角； 控制所述基板沿所述第一方向移动， 使所述 面阵激光 光束对基板进行 连续扫描； 控制所述数字微镜器件中微反射镜单元的翻转状态， 使所述微反射镜单元随着所述基 板的移动连续将面阵激光光束投射至基板形成蚀刻光斑， 重复该步骤直至所述基板上形成 预设的光刻图案 。 2.如权利要求1所述的高精度的DMD激光光刻印制电路方法， 其特征在于， 所述夹角 θ范 围为0°～30°。 3.如权利要求1所述的高精度的DMD激光光刻印制电路方法， 其特征在于， 所述激光光 束为细准 直光束， 所述细准 直光束沿光路方向通过物镜后 照射至所述 微镜单元。 4.如权利要求1所述的高精度的DMD激光光刻印制电路方法， 其特征在于， 所述数字微 镜器件为由微镜反射单 元组成的微镜列阵， 所述 微镜反射单 元为正方形铝片。 5.如权利要求1所述的高精度的DMD激光光刻印制电路方法， 其特征在于， 所述控制所 述数字微镜器件中微反射镜单元的翻转状态包括控制所述数字微镜器件在第一状态、 第二 状态和第三状态之间切换， 当所述微反射镜单元处于第一状态 时， 投射面阵激光光束至基 板形成蚀刻光斑。 6.如权利要求5所述的如权利要求1所述的高精度的DMD激光光刻印制电路方法， 其特 征在于， 还包括在所述激光光束经过数字微镜器件反射后的光路上设置光束吸收板， 使所 述所述微反射镜单 元处于所述第二状态和所述第三状态时所述激光 光束被吸 收。 7.一种高精度的DMD激光光刻印制电路设备， 其特征在于， 包括用于产生面阵光的照明 装置、 设置于所述照明装置发出 的面阵光的光路上 的数字微镜器件、 用于承载待加工的基 板的载物台组件、 设置于所述载物台组件和所述数字微镜器件之间的投影物镜， 以及电气 连接所述载物台组件和所述数字微镜器件的控制单元； 所述数字微镜器件 具有多个纵横排 列的微反射镜单 元， 所述微反射镜单元反射的所述面阵光经过所述投影物镜后在所述基板上形成刻蚀光 斑； 控制单元控制所述数字微镜器件偏转一定角度， 使所述数字微镜器件反射的光束投射 至所述基板上与所述第一方向的夹角 θ为锐角； 控制所述基板沿与所述第一方向移动， 使 所 述面阵激光光束对基板进行连续扫描； 控制所述数字微镜器件中微反射镜单元的翻转状 态， 使所述微反射镜单元随着所述基板的移动连续投射面阵激光光束至基板形成蚀刻光 斑， 重复该步骤直至所述基板上 形成预设的光刻图案 。 8.如权利要求7所述的高精度的DMD激光光刻印制电路设备， 其特征在于， 所述载物台 组件包括载物台本体， 以及连接所述载物台本体的移动平台； 所述基板设置于所述移动平 台的正对所述投影物镜的一侧， 所述移动平台能够在所述控制单元的控制下带动所述基板 移动。 9.如权利要求7所述的高精度的DMD激光光刻印制电路设备， 其特征在于， 所述照明装 置包括用于向所述数字微镜器件发射激光的激光 发生器， 以及设置于所述激光发生器和所权　利　要　求　书 1/2 页 2 CN 115446468 A 2述数字微镜器件之间的扩束器。 10.一种高精度的DMD激光光刻印制电路装置， 其特征在于： 包括处理器、 存储器和存储 在所述存储器中且可运行在所述处理器上的计算机程序， 所述计算机程序运行时实现如权 利要求1至 6任一项所述的方法步骤。权　利　要　求　书 2/2 页 3 CN 115446468 A 3