(19)国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202210258005.9 (22)申请日 2022.03.16 (71)申请人 南京芯视元电子有限公司 地址 210000 江苏省南京市江北新区星火 路14号长峰大厦1号试验楼 201室 (72)发明人 何军　胡健　 (74)专利代理 机构 北京超凡宏宇专利代理事务 所(特殊普通 合伙) 11463 专利代理师 崔熠 (51)Int.Cl. B08B 3/02(2006.01) B08B 3/08(2006.01) B08B 3/12(2006.01) B08B 13/00(2006.01) F26B 21/00(2006.01)A61L 2/10(2006.01) A61L 2/26(2006.01) (54)发明名称 一种硅基液晶清洗装置及清洗方法 (57)摘要 本发明公开了一种硅基液晶清洗装置及清 洗方法， 涉及硅基液晶生产技术领域， 本发明的 硅基液晶清洗装置， 包括具有容纳空间的矩体框 架以及在矩体框架上围绕容纳空间并沿第一方 向间隔设置的多个呈U型的固定架， 固定架所在 的平面与第一方向垂直， 固定架包括依次连接的 三个子支架， 三个子支架上分别设有卡槽， 卡槽 的槽口分别朝向容纳空间设置， 还包括转动设置 在矩体框架或固定架上的清洗组件， 清洗组件和 矩体框架沿与第一方向垂直的第二方向依次分 布。 本发明提供的硅基液晶清洗装置， 能够避免 在清洗过程中硅基液晶表面划痕、 划伤的产生， 降低破片的风险， 提高清洗良率和清洗效率。 权利要求书2页 说明书9页 附图5页 CN 114713545 A 2022.07.08 CN 114713545 A 1.一种硅基液晶清洗装置， 其特征在于， 包括具有容纳空间的矩体框架以及在所述矩 体框架上围绕所述容纳空间并沿第一方向间隔设置的多个呈U型 的固定架， 所述固定架所 在的平面与所述第一方向垂直， 所述固定架包括依 次连接的三个子支架， 三个所述子支架 上分别设有卡槽， 所述卡槽的槽口分别朝向所述容纳空间设置， 还包括转动设置在所述矩 体框架或所述固定架上的清洗组件， 所述清洗组件和所述矩体框架沿与所述第一方向垂 直 的第二方向依次分布。 2.根据权利要求1所述的硅基液晶清洗装置， 其特征在于， 同一所述固定架上的三个所 述卡槽的中心位于同一圆周上。 3.根据权利要求1所述的硅基液晶清洗装置， 其特征在于， 所述卡槽的截面形状为矩形 或三角形。 4.根据权利要求1所述的硅基液晶清洗装置， 其特征在于， 所述清洗组件包括多个第 一 药液喷头和第二药液喷头， 所述第一药液喷头和所述第二药液喷头 分别位于所述矩体框架 的两侧且成对设置， 多个所述第一药液喷头和多个所述第二药液喷头 分别沿所述第一方向 成排设置并沿第三方向成列设置， 所述第一药液喷头和所述第二药液喷头的旋转平面垂 直 于所述第三方向， 所述第三方向分别垂直于所述第一方向和所述第二方向。 5.根据权利要求4所述的硅基液晶清洗装置， 其特征在于， 一列 所述第一药液喷头沿所 述第三方向的总喷吐范围和 一列所述第二药液喷头沿所述第三方向的总喷吐范围均大于 或等于固定在所述固定架上的硅基液晶在所述第三方向上的直线尺寸， 成对设置的两个所 述第一药液喷头和所述第二药液喷头沿所述第二方向的喷吐范围均大于或等于所述硅基 液晶在所述第二方向上的直线尺寸。 6.根据权利要求5所述的硅基液晶清洗装置， 其特征在于， 单个所述第 一药液喷头和所 述第二药 液喷头在所述第三方向上的喷吐角度满足： 其中， θ1为单个所述第一药液喷头或所述第二药液喷头喷出的药液在第三方向上的夹 角， c为所述硅基液晶在所述第三方向上的直线尺寸， n为每列所述第一药液喷头或每列所 述第二药液喷头的数量， a为所述第一药液喷头或所述第二药液喷头在所述第一方向上与 所述硅基液 晶表面之间的垂直距离， b为所述第一药液喷头在所述第二方向上与所述硅基 液晶上边缘之间的垂直距离或所述第二药液喷头在所述第二方向上与所述硅基液晶下边 缘之间的垂直距离 。 7.根据权利要求5所述的硅基液晶清洗装置， 其特征在于， 所述第 一药液喷头包括两个 转动中心重合的第一子药液喷头， 所述第二药液喷头包括两个转动中心重合的第二子药液 喷头， 所述第一子药液喷头和所述第二子药液喷头的转动中心均位于相 邻的两个所述硅基 液晶的中心 面上， 两个所述第一子药液喷头和两个所述第二子药液喷头分别相对于所述中 心面对称分布， 所述第一子药液喷头和所述第二子药液喷头沿第二方向的喷吐范围均大于 或等于所述硅基液晶在所述第二方向上的直线尺 寸， 成对设置的两个所述第一子药液喷头 和所述第二子药 液喷头同时清洗所述硅基液晶 的同一位置。 8.根据权利要求7所述的硅基液晶清洗装置， 其特征在于， 所述第 一子药液喷头的旋转 角速度ω1满足：权　利　要　求　书 1/2 页 2 CN 114713545 A 2所述第二子药 液喷头的旋转角速度ω2满足： 其中， a为所述第一子药液喷头或所述第二子药液喷头在所述第一方向上与所述硅基 液晶表面之间的垂直距离， b为所述第一子药液喷头在所述第二方向上与所述硅基液 晶上 边缘之间的垂直距离或所述第二子药液喷头在所述第二方向上与所述硅基液晶下边缘之 间的垂直距离， V为所述第一子药液喷头或所述第二子药液喷头喷出 的药液在所述硅基液 晶上的清洗 速率， t为清洗的时间。 9.根据权利要求1所述的硅基液晶清洗装置， 其特征在于， 沿所述第 一方向相邻 两个所 述卡槽中心线之间的间距为1cm ‑5cm， 所述卡槽的槽深为2m m‑5mm。 10.一种硅基液晶清洗方法， 采用如权利要求1至9中任意一项所述的硅基液晶清洗装 置， 其特征在于， 所述方法包括： 将载满硅基液晶的所述硅基液晶清洗装置放置于盛有第一清洗药液的预清洗槽并使 所述硅基液晶的板面垂 直于所述清洗槽的底面， 开启所述预清洗槽内的第一超声装置并清 洗第一预设时间； 将预清洗后的所述硅基液晶清洗装置转移至传动平台并使所述硅基液晶的板面垂直 于所述传动平台的表 面， 所述硅基液晶清洗装置的清洗组件向所述硅基液晶的表面喷射预 清洗剂并清洗第二预设时间； 将所述清洗组件内的预清洗剂更换为第 一清洗溶剂后， 所述清洗组件向所述硅基液晶 的表面喷射所述第一清洗溶剂并清洗第三预设时间； 将所述硅基液晶清洗装置转移至充满第二清洗药液的药液槽并使所述硅基液晶的板 面垂直于所述药 液槽的底面， 开启所述药 液槽内的第二超声装置并持续第四预设时间； 将所述硅基液晶清洗装置再次转移至所述传动平台并使所述硅基液晶的板面垂直于 所述传动平台的表面， 所述清洗组件向所述硅基液晶的表面喷射第二清洗溶剂并清洗第五 预设时间； 将所述硅基液晶清洗装置转移至风刀装置后， 开启所述风刀装置向所述硅基液晶的表 面吹风并持续第六 预设时间； 将所述硅基液晶清洗装置转移至烘干装置后， 将所述烘干装置升温至预设温度并对所 述硅基液晶烘干第七预设时间； 将所述硅基液晶清洗装置转移至光洗装置后， 开启所述光洗装置对所述硅基液晶紫外 线照射第八预设时间。权　利　要　求　书 2/2 页 3 CN 114713545 A 3