(19)国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202210264827.8 (22)申请日 2022.03.17 (71)申请人 北京北方华创微电子装备有限公司 地址 100176 北京市大兴区经济技 术开发 区文昌大道8号 (72)发明人 李广义　南建辉　 (74)专利代理 机构 北京国昊天诚知识产权代理 有限公司 1 1315 专利代理师 周永强 (51)Int.Cl. B08B 3/02(2006.01) B08B 11/00(2006.01) B08B 13/00(2006.01) F26B 5/08(2006.01) F26B 21/00(2006.01) (54)发明名称 清洗系统 (57)摘要 本申请公开了一种清洗系统， 涉及半导体领 域。 一种清洗系统， 包括清洗装置和花篮； 清洗装 置包括装置本体、 支撑组件和清洁组件； 所述装 置本体具有工艺腔体； 所述支撑组件包括设于工 艺腔体内的支撑架， 所述花篮设置于所述支撑 架； 所述清洁组件包括喷臂， 所述喷臂设置于所 述工艺腔体内， 并与所述花篮对应设置， 所述喷 臂用于向所述花篮喷射清洗介质或干燥介质。 本 申请至少能够解决自动清洗整个过程中传送花 篮而导致清洗效率低的问题。 权利要求书2页 说明书8页 附图3页 CN 114632751 A 2022.06.17 CN 114632751 A 1.一种清洗系统， 用于清洗承载晶圆的片篮(300)， 其特征在于， 所述清洗系统包括： 清 洗装置(10 0)以及与清洗装置(10 0)配合使用的花篮(20 0)； 所述清洗装置(10 0)包括： 装置 本体(110)、 支撑组件(120)和清洁组件(13 0)； 所述装置 本体(110)具有工艺腔体(1 11)； 所述支撑组件(120)包括设置于所述工艺腔体(111)内的支撑架(121)， 所述花篮(200) 设置于所述支撑架(121)； 所述清洁组件(130)包括喷臂(131)， 所述喷臂(131)设置于所述工艺腔体(111)内， 并 与所述花篮(200)对应设置， 所述喷臂(131)用于向所述花篮(200)喷射清洗介质或干燥介 质。 2.根据权利要求1所述的清洗系统， 其特征在于， 所述支撑组件(120)还包括支撑轴 (122)以及与支撑轴(12 2)传动连接的驱动部件(123)； 所述支撑轴(122)与所述装置本体(110)转动连接， 且所述支撑轴(122)至少部分延伸 至所述工艺腔体(1 11)内， 所述支撑架(121)设置 于所述支撑轴(12 2)。 3.根据权利要求2所述的清洗系统， 其特征在于， 所述支撑架(121)具有多个容纳区域 (1211)， 多个所述容纳区域(1211)围绕所述支撑轴(122)分布在所述支撑轴(122)的周围， 且每个所述容纳区域(121 1)分别放置有所述 花篮(200)。 4.根据权利要求3所述的清洗系统， 其特征在于， 所述支撑架(121)包括用于支撑所述 花篮(200)底部的第一围栏(1212)和用于限位所述 花篮(200)侧部的第二围栏(1213)； 所述第一围栏(1212)与所述第二围栏(1213)沿所述支撑轴(12 2)的轴向间隔设置； 沿所述支撑轴(122)的径向且背离所述支撑轴(122)的方向， 所述第一围栏(1212)朝向 背离所述第二围栏(1213)的方向倾 斜设置。 5.根据权利要求1所述的清洗系统， 其特征在于， 所述花篮(200)包括框架(210)、 支撑 件(220)和压紧件(23 0)； 多个所述支撑件(2 20)间隔设置 于所述框架(210)的底部， 用于支撑所述片篮(3 00)； 所述压紧件(23 0)设置于所述框架(210)的顶部， 用于 压紧所述片篮(3 00)； 所述框架(210)、 所述支撑件(220)和所述压紧件(230)围成容纳所述片篮(300)的容纳 空间。 6.根据权利要求5所述的清洗系统， 其特征在于， 所述框架(210)相对设置的两个侧壁 的顶部均设有长孔或长 槽(212)； 所述压紧件(230)为压杆， 所述压杆的两端分别可移动地设置于相对的所述长孔或长 槽(212)中， 以调节所述压杆与所述片篮(3 00)的顶端之间的距离 。 7.根据权利要求2所述的清洗系统， 其特征在于， 所述清洁组件(130)还包括输送管路 (132)， 所述输送管路(132)的一端延伸至所述工艺腔体(111)内， 所述喷臂(131)与所述输 送管路(132)连接； 所述输送管路(132)的另一端用于与供 液装置或供气装置连接， 或者， 所述输送管路(132)的另一端用于与供液装置和供气装置分别连接， 且所述供液 装置的出口及所述供气装置的出口均设有控制阀。 8.根据权利要求7所述的清洗系统， 其特征在于， 所述支撑组件(120)包括多个所述支 撑架(121)， 多个所述支撑架(121)沿所述支撑轴(12 2)的轴向间隔设置；权　利　要　求　书 1/2 页 2 CN 114632751 A 2所述清洁组件(130)包括多个所述喷臂(131)， 每个所述支撑架(121)沿所述支撑轴 (122)的轴向的两侧分别设有所述喷臂(131)。 9.根据权利要求1、 2、 7或8所述的清洗系统， 其特征在于， 所述装置本体(110)具有储液 腔体(112)， 所述储 液腔体(112)设置于所述工艺腔体(111)的下方， 且两者之间设有台面板 (113)， 所述台面板(113)设有连通所述储液腔体(112)与所述工艺腔体(111)的通孔 (1311)。 10.根据权利要求9所述的清洗系统， 其特征在于， 所述清洁组件(130)还包括输送管路 (132)和循环管路； 所述输送管路(132)的一端延伸 至所述工艺腔体(111)内， 所述喷臂(131)与所述输送 管路(132)连接； 所述循环管路的一端与所述输送管路(132)连接， 所述循环管路的另一端延伸至所述 储液腔体(1 12)内， 所述循环管路设有 泵体。权　利　要　求　书 2/2 页 3 CN 114632751 A 3