(19)国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202210301449.6 (22)申请日 2022.03.24 (71)申请人 惠伦晶体 （重庆） 科技有限公司 地址 400800 重庆市綦江区万盛经开区鱼 田堡高新 技术产业园 (72)发明人 岳邦银　 (74)专利代理 机构 重庆渝之知识产权代理有限 公司 50249 专利代理师 陈咏 (51)Int.Cl. B08B 3/12(2006.01) B08B 3/08(2006.01) B08B 3/02(2006.01) B08B 13/00(2006.01) F26B 15/18(2006.01)F26B 21/00(2006.01) (54)发明名称 一种石英晶片清洗烘干系统 (57)摘要 本发明涉及半导体制造技术领域， 特别是涉 及一种石英晶片清洗烘干系统， 包括清洗装置， 用于清洗石英晶片， 所述清洗装置包括： 壳体； 进 料口以及出料口， 分别设置在所述壳体的两侧 上； 提篮， 用于装载石英晶片， 设置在所述壳体 内； 夹具， 用于夹取所述提篮， 活动设置在所述壳 体内； 烘干装置， 用于烘干清洗后的石英晶片， 所 述烘干装置包括： 炉体， 其上设置有进口和出口， 用于对石英晶片进行冷却； 传送装置， 用于将石 英晶片从清洗装置传送至烘干装置中， 其两端分 别与所述出料口以及所述进口连接。 本方案通过 传送装置将清洗完毕的石英晶片从清洗装置传 送到烘干装置中， 避免石英晶片在转运的过程中 受到二次污染。 权利要求书1页 说明书6页 附图3页 CN 114618828 A 2022.06.14 CN 114618828 A 1.一种石英晶片清洗烘干系统， 其特征在于， 包括用于清洗石英晶片的清洗装置、 用于 烘干清洗后的石英晶片的烘干装置以及用于将石英晶片从清洗装置传送至烘干装置中的 传送装置， 其中， 所述清洗装置包括： 壳体， 所述壳体的两侧分别设置进料口以及出料口； 提篮， 设置在 所述壳体内， 用于装载石英晶体； 夹具， 活动设置在所述壳体内， 用于夹取所述提篮； 清洗机 构， 设置在所述壳体内， 包括从进 料口向出料口方向依次设置的超声波碱洗槽、 第一纯水喷 淋漂洗槽、 超声波酸洗槽、 第二纯 水喷淋漂洗 槽、 兆声波精洗槽以及异丙醇振洗 槽； 所述烘干装置包括： 炉体， 其上设置有进口和出口， 并且所述炉体连通有氮气源； 传动 机构， 设置在所述炉体内， 用于传送石英晶体； 温度控制机构， 设置在所述炉体内， 用于加热 和控制所述炉体内的温度； 冷却机构， 设置在所述温度控制机构与所述出口之间， 用于对石 英晶体进行冷却， 所述冷却机构包括紫铜管水冷盘和铝翅片散热器， 所述紫铜管水冷盘设 置在所述铝翅片散热器上； 气氛控制机构， 设置在所述炉体内， 用于调节炉体内氮气气压； 至少一台热风 风机， 设置在所述炉体内， 用于驱动炉体内气流循环； 所述传送装置的两端分别与所述出 料口以及所述进口连接 。 2.根据权利要求1所述的石英晶片清洗烘干系统， 其特征在于： 所述温度控制机构包括 沿炉体长度方向排布的多个温区， 每个所述温区内分别设置有温控器和热电偶， 所述多个 温区为从入口向出 口依次设置的第一温区、 第二温区、 第三温区、 第四温区以及第 五温区， 所述第一 温区、 第二 温区、 第三 温区、 第四温区以及第五温区内的温度 依次为150±5℃、 145 ±5℃、 145±5℃、 145±5℃以及15 0±5℃。 3.根据权利要求1所述的石英晶片清洗烘干系统， 其特征在于： 所述传动机构包括传动 辊轮和网带， 所述传动辊轮转动连接在所述炉体内， 并且所述网带套设在所述传动辊轮上。 4.根据权利要求1所述的石英晶片清洗烘干系统， 其特征在于： 所述传送装置包括传送 架、 传送带以及传送轮， 所述传送架的两端分别与所述清洗装置以及所述烘干装置连接， 所 述传送轮转动连接在所述传送 架上， 所述传送带套设在所述传送轮上。 5.根据权利要求1所述的石英晶片清洗烘干系统， 其特征在于： 所述气氛控制机构包括 用于控制炉体内气压的减压调节阀门。 6.根据权利要求1所述的石英晶片清洗烘干系统， 其特征在于： 所述超声波碱洗槽 内设 置有超声 波发生器、 碱性溶 液以及用于检测所述碱性溶 液液面高度的高低液位保护机构。 7.根据权利要求1所述的石英晶片清洗烘干系统， 其特征在于： 所述第 一纯水喷淋漂洗 槽与第二纯 水喷淋漂洗 槽内分别设置有喷淋管。 8.根据权利要求1所述的石英晶片清洗烘干系统， 其特征在于： 所述超声波酸洗槽 内设 置有超声 波发生器以及酸 性溶液。 9.根据权利要求1所述的石英晶片清洗烘干系统， 其特征在于： 所述兆声波精洗槽 内设 置有兆声 波发生器和喷淋管。 10.根据权利要求1所述的石英晶片清洗烘干系统， 其特征在于： 所述异丙醇振洗槽内 设置有异丙醇溶 液以及超声 波发生器。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 114618828 A 2一种石英晶片清洗烘干系统 技术领域 [0001]本发明涉及半导体制造技 术领域， 特别是 涉及一种石英晶片清洗烘干系统。 背景技术 [0002]随着电子通信终端换代升级， 对于压电石英器件也提出了更高的要求， 尤其是在 稳定性和小 型化方面。 其中， 石英晶片是压电石英器件中非常重要的组件之一， 在石英晶片 的加工过程中涉及到清洗烘干工序， 清洗好后的晶片通过镀膜形成电极电路， 若石英晶片 清洗烘干效果不佳将会直接影响到镀膜的效果， 从而影响到后续成品质量。 因此， 清洗烘干 工序对最终产品质量是决定性因素。 [0003]传统的石英晶片清洗烘干方法是先将晶片在镀膜夹具上排完片并清洗， 然后人工 将石英晶片放入烘箱进行烘干。 从清洗完毕转运到烘箱的过程中， 清洗干净后的晶片很容 易受到二次污染， 从而影响后续的成品质量。 发明内容 [0004]鉴于以上所述现有技术的缺点， 本发明的目的在于提供一种石英晶片清洗烘干系 统， 用于解决现有技 术中清洗 完毕的石英晶片转 运的过程中受到 污染的问题。 [0005]为实现上述目的及其他相关目的， 本发明提供一种石英 晶片清洗烘干系统， 包括 用于清洗石英晶片的清洗装置、 用于烘干清洗后的石英晶片的烘干装置以及用于将石英晶 片从清洗装置传送至烘干装置中的传送装置， 其中， [0006]所述清洗装置包括： 壳体， 所述壳体 的两侧分别设置进料口以及出料口； 提篮， 设 置在所述壳体内， 用于装载石英晶体； 夹具， 活动设置在所述壳体内， 用于夹取所述提篮； 清 洗机构， 设置在所述壳体内， 包括从进 料口向出料口方向依次设置的超声波碱洗槽、 第一纯 水喷淋漂洗 槽、 超声波酸洗槽、 第二纯 水喷淋漂洗 槽、 兆声波精洗槽以及异丙醇振洗 槽； [0007]所述烘干装置包括： 炉体， 其上设置有进口和出口， 并且所述炉体连通有氮气源； 传动机构， 设置在所述炉体内， 用于传送石英晶体； 温度控制机构， 设置在所述炉体内， 用于 加热和控制所述炉体内的温度； 冷却机构， 设置在所述温度控制机构与所述出口之间， 用于 对石英晶体进行冷却， 所述冷却机构包括紫铜管水冷盘和铝翅片散热器， 所述紫铜管水冷 盘设置在所述铝翅片 散热器上； 气氛控制机构， 设置在所述炉体内， 用于调节炉体内氮气气 压； 至少一台热风 风机， 设置在所述炉体内， 用于驱动炉体内气流循环； [0008]所述传送装置的两端分别与所述出 料口以及所述进口连接 。 [0009]可选地， 所述温度控制机构包括沿炉体长度方向排布的多个温区， 每个所述温区 内分别设置有温控器和热电偶， 所述多个温区为从入口向出 口依次设置的第一温区、 第二 温区、 第三温区、 第四温区以及第五温区， 所述第一温区、 第二温区、 第三温区、 第四温区以 及第五温区内的温度依次为15 0±5℃、 145±5℃、 145±5℃、 145±5℃以及15 0±5℃。 [0010]可选地， 所述传动机构包括传动辊轮和网带， 所述传动辊轮转动连接在所述炉体 内， 并且所述网带套设在所述传动辊轮上。说　明　书 1/6 页 3 CN 114618828 A 3