(19)国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202210299405.4 (22)申请日 2022.03.25 (71)申请人 智程半导体设备 科技 （昆山） 有限公 司 地址 215000 江苏省苏州市昆山市玉山 镇 玉杨路299号3号房 (72)发明人 刘国强　蔡超　 (74)专利代理 机构 苏州友佳知识产权代理事务 所(普通合伙) 32351 专利代理师 储振 (51)Int.Cl. H01L 21/67(2006.01) B08B 3/02(2006.01) B08B 3/08(2006.01) (54)发明名称 一种单片式晶圆清洗装置 (57)摘要 本发明提供了一种单片式晶圆清洗装置， 包 括： 具有敞口的腔体外壳， 腔体外壳内设腔体内 罩， 同轴套设于腔体内罩的喷液组件， 腔体外壳 径向向内延伸形成位于腔体内罩下方的导流组 件； 导流组件与腔体内罩的下边缘之间形成第一 间隙， 喷液 组件外部形成位于腔体内罩和腔体外 壳之间并与第一间隙相连通的环形区域， 以供环 形区域内气体与液体经第一间隙横向排出。 通过 申请实现在对晶圆进行升降时， 能够对腔体外壳 内的雾气进行持续性的清洁， 同时也能对晶圆清 洗中溅射的药液进行清洁， 有效地提高了对雾气 和废液的清洁效果， 并且能够防止晶圆背面受到 药液污染。 权利要求书2页 说明书6页 附图8页 CN 114613702 A 2022.06.10 CN 114613702 A 1.一种单片式晶圆清洗装置， 包括： 其特 征在于， 具有敞口的腔体外壳， 所述腔体外壳内设腔体内罩， 同轴套设于所述腔体内罩的喷液 组件， 所述腔体外壳径向 向内延伸形成位于所述腔体内罩下 方的导流组件； 所述导流组件与所述腔体内罩的下边缘之间形成第 一间隙， 所述喷液组件外部形成位 于所述腔 体内罩和所述腔 体外壳之 间并与所述第一间隙相连通的环形区域， 以供所述环形 区域内气体与液体经 所述第一间隙横向排出。 2.根据权利要求1所述的单片式晶圆清洗装置， 其特征在于， 所述腔体外 壳沿环形均匀 排布若干连接所述腔 体内罩和所述喷液组件的支撑件， 所述支撑件位于所述环形区域内并 将环形区域分隔成若干与所述第一间隙相连通的弧形导 流区域。 3.根据权利要求1所述的单片式晶圆清洗装置， 其特征在于， 所述导流组件包括： 腔体 外壳沿径向方向依次向内倾斜延伸形成的导板和竖直延伸形成的内环板， 所述导板 设置径 向向内呈倾斜设置的坡面， 以引导从所述第一间隙流出的气体与液体向腔体外壳底部汇 聚。 4.根据权利要求2所述的单片式晶圆清洗装置， 其特征在于， 所述支撑件包括： 连接导 板并与导板坡度相匹配的支撑板， 设置所述支撑板顶部的支撑块， 所述支撑板与所述腔体 内罩的下边 缘相抵持。 5.根据权利要求2所述的单片式晶圆清洗装置， 其特征在于， 所述喷液组件包括： 嵌设 所述支撑块内部的喷液 管， 所述喷液 管呈环状， 所述喷液 管开设若干喷液孔。 6.根据权利要求1所述的单片式晶圆清洗装置， 其特征在于， 所述腔体外 壳底部设置斜 板， 并形成容纳晶圆进 行清洗的第一腔体， 所述斜板 设置供液体排出的管道， 沿所述斜板轴 线方向向上延伸形成衔接管， 所述斜板外边缘周向延伸形成套设于所述内环板外侧的外环 板， 所述外环板竖直至少延伸过 所述内环板的底缘； 所述外环板外侧与腔体外 壳之间形成供气体汇集的外腔区域， 所述外环板与 所述内环 板之间形成供气体流通的第二间隙， 所述外环板上边缘与所述导板相 抵持， 所述外环板开 设若干供所述第二间隙连通所述外腔区域的通孔， 所述腔体外壳设置连通所述外腔区域内 气源的排气管。 7.根据权利要求6所述的单片式晶圆清洗装置， 其特征在于， 还包括： 框架， 所述框架顶 部装配被所述腔 体外壳内嵌的外罩安装框， 所述外罩安装框上表面设置套设于所述腔体外 壳的衔接块， 沿所述外罩安装框长度方向依次设置所述腔体外壳外侧的喷液摆臂与喷气摆 臂， 所述框架设置 升降旋转机构， 连接所述升降旋转机构的安装架。 8.根据权利要求7所述的单片式晶圆清洗装置， 其特征在于， 所述升降旋转机构包括： 升降组件， 靠近所述升降组件的安装套， 所述升降组件设置与所述安装架装配的连接板， 与 所述安装套 连接的连接件， 所述安装套底部连接旋转电机， 内嵌于所述安装套的中空轴， 同 轴套设于所述旋转电机并连接所述中空轴的联轴器， 所述中空轴设置供气 体流通的气流通 道， 所述中空轴顶端形成位于第一腔体中的载台组件； 所述联轴器包括： 套设于所述旋转电机转轴的第一固定环， 设置所述中空轴底端的第 二固定环， 连接所述第一固定环与所述第二固定环并抵持于所述第一固定环与所述第二固 定环之间的弹簧。 9.根据权利要求8所述的单片式晶圆清洗装置， 其特征在于， 所述载台组件包括： 嵌套权　利　要　求　书 1/2 页 2 CN 114613702 A 2于所述衔接管 的工作台， 所述工作台顶部内嵌承载台， 所述工作台上边缘与所述承载台上 表面属于同一水平面， 所述工作台外边 缘环设限位组件； 所述限位组件包括： 与所述工作台活动连接的活动杆， 设置在所述活动杆顶端的夹持 柱， 所述工作台上表面设置靠近所述夹持柱的承载块， 相反于所述承载块的一侧设置销柱， 所述销柱 顶端呈锥形， 以引导晶圆与承载台对中。 10.根据权利要求9所述的单片式晶圆清洗装置， 其特征在于， 所述承载台包括： 连通气 流通道的通气区域， 设置若干与所述通气区域连通的导流通道， 开设与所述通气区域和导 流通道相连通的导气孔， 所述通气区域环设若干分散气体的导流条， 以引导气体注入导气 孔。权　利　要　求　书 2/2 页 3 CN 114613702 A 3