(19)国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202210304342.7 (22)申请日 2022.03.25 (71)申请人 梁惠平 地址 511400 广东省广州市番禺区10 5国道 大石段471号 (72)发明人 梁惠平　 (51)Int.Cl. H01L 21/67(2006.01) B08B 3/02(2006.01) B08B 3/14(2006.01) F26B 21/00(2006.01) F26B 25/00(2006.01) B01D 29/03(2006.01) B01D 29/64(2006.01) (54)发明名称 一种半导体清理设备 (57)摘要 本发明公开了一种半导体清理设备， 包括水 箱和清理箱， 所述水箱的侧壁贯穿插设有出水管 和进水管， 所述出水管与水箱的下部接通， 所述 进水管与水箱的上部接通， 所述水箱的内部固定 有水泵， 所述水泵出水口与进水管接通， 所述水 箱的内底部固定有电机， 所述电机的输出轴固定 有底轴， 所述水箱的内壁固定有滤网， 所述底轴 与滤网贯穿转动连接， 所述底轴的侧壁固定有刮 板， 所述刮板与滤网的上端 面相抵。 优点在于： 本 发明中， 驱动叶能够推动底部水流， 使其向上转 移， 结构喷气带来的动能支持， 使得晶圆能够保 持在清理箱中游位置而处于浮动状态， 进而能够 实现浸洗和冲洗的双重效果。 权利要求书1页 说明书4页 附图8页 CN 114664708 A 2022.06.24 CN 114664708 A 1.一种半导体清理设备， 包括水箱(1)和清理箱(2)， 其特征在于， 所述水箱(1)的侧壁 贯穿插设有出水管(3)和进水管(4)， 所述出水管(3)与水箱(1)的下部接通， 所述进水管(4) 与水箱(1)的上部接通， 所述水箱(1)的内部固定有水泵(5)， 所述水泵(5)出水口与进水管 (4)接通， 所述水箱(1)的内底部固定有电机(6)， 所述电机(6)的输出轴固定有底轴(7)， 所 述水箱(1)的内壁固定有滤网(8)， 所述底轴(7)与滤网(8)贯穿转动连接， 所述底轴(7)的侧 壁固定有刮板(9)， 所述刮板(9)与滤网(8)的上端面相抵， 所述底轴(7)的上端固定有丝杆 (10)， 所述丝杆(10)的上端固定有顶轴(11)， 所述顶轴(11)的上端固定有驱动叶(12)， 所述 清理箱(2)的内壁滑动连接有承 载板(13)， 所述承 载板(13)的上端贯穿开设有涡流孔(28)， 所述涡流孔(28)与 驱动叶(12)位置相对应， 所述丝杆(10)的侧壁设有推进机构， 所述底轴 (7)的侧壁设有换电机构。 2.根据权利要求1所述的一种半导体清理设备， 其特征在于， 所述推进机构包括与丝杆 (10)侧壁螺纹连接的滑块(24)， 所述滑块(24)的外壁通过单向轴承转动连接有转套(25)， 所述转套(25)的侧壁通过连杆(26)连接有推杆(27)， 所述推杆(27)与清理箱(2)的底部密 封贯穿滑动连接， 所述推杆(27)顶部与承载板(13)底部相抵， 所述丝杆(10)为往复丝杆。 3.根据权利要求1所述的一种半导体清 理设备， 其特征在于， 所述承载板(13)的上端贯 穿开设有多个喷孔(14)， 所述清理箱(2)的底部贯穿固定有一组外喷头(15)和一组内喷头 (16)， 所述外喷头(15)和内喷头(16)均与喷孔(14)位置对应， 所述外喷头(15)和内喷头 (16)分别与外 设的两组气泵 连接， 所述外喷头(15)朝向清理箱(2)中心倾斜设置， 所述内 喷 头(16)朝向清理箱(2)外围边 缘倾斜设置。 4.根据权利要求3所述的一种半导体清理设备， 其特征在于， 所述换电机构包括固定于 底轴(7)周向侧壁的换电套(17)， 所述换电套(17)的内壁通过复位弹簧(20)连接有接电块 (21)， 所述换电套(17)的内壁固定有一对内接电板(22)和一对外接电板(23)， 所述清理箱 (2)的上端固定有吸附套(18)， 所述底轴(7)贯穿吸附套(18)， 所述吸附套(18)的外壁固定 有吸附块(19)， 所述吸附块(19)为永磁铁且能够吸引接电块(21)。 5.根据权利要求1所述的一种半导体清理设备， 其特征在于， 所述出水管(3)位于滤网 (8)上部， 所述水泵(5)位于滤网(8)下部， 所述顶轴(11)与清理箱(2)的底部密封贯穿转动 连接。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 114664708 A 2一种半导体清理设 备 技术领域 [0001]本发明涉及半导体技 术领域， 尤其涉及一种半导体清理设备。 背景技术 [0002]在半导体的制造过程中， 需要图形转移工艺， 其中包括光刻 工艺， 光刻工艺是一种 图形复印技术， 是半导体制造工艺中一项关键的技术， 光刻受到照相技术的启发， 利用光刻 胶感光特性， 将光刻掩膜板的图形精确地复印到 涂在晶圆上的光刻 胶上。 [0003]晶圆在加工时， 经历了晶棒的切割， 然后表面在进行毛刺边角的打磨处理， 需要进 行有效的清洗才能进行后续的使用， 而现有的晶圆清理设备无法做到持续高效的清洗， 并 且晶圆表面进 行清洗后， 需要对晶圆表面进 行烘干， 而现有设备清洗和烘干 分开处理， 晶圆 需要转移， 过程相对繁琐， 并且烘干过程 面临热量 集聚带来的损伤风险。 发明内容 [0004]本发明的目的是为了解决现有技术中清理效果差的问题， 而提出的一种半导体清 理设备。 [0005]为了实现上述目的， 本发明采用了如下技术方案： 一种半导体清理设备， 包括水箱 和清理箱， 所述水箱的侧壁贯穿插设有 出水管和进 水管， 所述出水管与水箱的下部接通， 所 述进水管与水箱的上部接通， 所述水箱的内部固定有 水泵， 所述水泵 出水口与进 水管接通， 所述水箱的内底部固定有电机， 所述电机的输出轴固定有底轴， 所述水箱的内壁固定有滤 网， 所述底轴与滤网贯穿转动连接， 所述底轴的侧壁固定有刮板， 所述刮板与滤网的上端面 相抵， 所述底轴的上端固定有丝杆， 所述丝杆的上端固定有顶轴， 所述顶轴的上端固定有驱 动叶， 所述清理箱的内壁滑动连接有承载板， 所述承载板的上端贯穿开设有涡 流孔， 所述涡 流孔与驱动叶位置相对应， 所述丝杆的侧壁设有推进机构， 所述底轴的侧壁设有换电机构。 [0006]在上述的半导体清理设备中， 所述推进机构包括与丝杆侧壁螺纹连接 的滑块， 所 述滑块的外壁通过单向轴承转动连接有转套， 所述转套的侧 壁通过连杆连接有推杆， 所述 推杆与清理箱的底部密封贯穿滑动连接， 所述推杆顶部与承载板底部相 抵， 所述丝杆为往 复丝杆。 [0007]在上述的用于室内装潢的垂直绿化装置中， 所述承载板的上端贯穿开设有多个喷 孔， 所述清理箱的底部贯穿固定有一组外喷头和一组内喷头， 所述外 喷头和内喷头均与喷 孔位置对应， 所述外喷头和内喷头分别与外设的两组气泵连接， 所述外喷头朝向清理箱中 心倾斜设置， 所述内喷头朝向清理箱外围边 缘倾斜设置。 [0008]在上述的用于室内装潢的垂直绿化装置中， 所述换电机构包括固定于底轴周向侧 壁的换电套， 所述换电套的内壁通过复位弹簧连接有接电块， 所述换电套的内壁固定有一 对内接电板和一对外接电板， 所述清理箱的上端固定有吸附套， 所述底轴贯穿吸附套， 所述 吸附套的外壁固定有吸附块， 所述吸附块 为永磁铁且能够吸引接电块。 [0009]在上述的用于室内装潢的垂直绿化装置中， 所述出水管位于滤网上部， 所述水泵说　明　书 1/4 页 3 CN 114664708 A 3