全网唯一标准王
(19)国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 20221047213 6.7 (22)申请日 2022.04.29 (71)申请人 江苏凯威特斯半导体科技有限公司 地址 214000 江苏省无锡市锡山经济技 术 开发区团结路31号 (72)发明人 顾仁宝 薛弘宇 李伟东 陈开清  刘伟伟 朱文健 余箫伟 魏韶华  杨国江 张牧  (74)专利代理 机构 无锡苏元专利代理事务所 (普通合伙) 32471 专利代理师 张洪伟 (51)Int.Cl. B08B 3/02(2006.01) B08B 3/08(2006.01) B08B 3/04(2006.01)B08B 7/02(2006.01) F26B 21/00(2006.01) (54)发明名称 一种半导体用石英零部件的清洗的方法 (57)摘要 本发明公开了一种半导体用石英零部件的 清洗方法, 包括如下步骤: S1、 首先用去离子水将 石英零部件表 面冲洗, 用过滤后的干燥氮气将石 英表面吹干; S2、 然后将其加入含丙烯酸 ‑2‑丙烯 酰胺‑2‑甲基丙磺酸液和二乙三胺五乙酸液至少 一种的螯合剂中浸泡; S3、 最后再用去离子水溢 流, 得到清洗干净的石英零部件。 在上述清洗方 法中, 去离子水实现了对表面大部分杂质的去 除; 螯合剂实现了对金属离子的去除; 去离子水 溢流实现了对表面螯合物的去除; 该清洗方法实 现了石英制品表面十五种金属离子含量低于 0.1ppb, 最低可达到0.001ppb, 而且所使用的螯 合剂相对比较弱, 对石英件所产生的腐蚀性也非 常小, 具有安全、 可靠、 高效的特点。 权利要求书1页 说明书3页 CN 115069636 A 2022.09.20 CN 115069636 A 1.一种半导体用石英零部件的清洗方法, 其特 征在于, 包括如下步骤: S1、 首先用去离 子水将石英表面冲洗, 用过 滤后的干燥氮气将石英表面吹干; S2、 然后将石英加入含丙烯酸 ‑2‑丙烯酰胺 ‑2‑甲基丙磺酸液和二乙三胺五乙酸液中的 至少一种的螯合剂中浸泡; S3、 最后再用去离 子水溢流, 得到清洗 干净的石英制品。 2.如权利要求1所述的清洗石英的方法, 其特征在于, S1中去离子水将石英表面冲洗 0.5小时。 3.如权利要求1所述的半导体用石英零部件的清洗的方法, 其特征在于, S2中浸泡30~ 90min。 4.如权利要求1所述的半导体用石英零部件的清洗的方法, 其特征在于, 所用的二乙三 胺五乙酸液既有螯合剂的作用又有表面活性剂的作用。 5.如权利要求1所述的半导体用石英零部件的清洗的方法, 其特征在于, 丙烯酸 ‑2‑丙 烯酰胺‑2‑甲基丙磺酸液的浓度和二乙三胺五乙酸液的浓度均为1~10wt%。 6.如权利要求1所述的半导体用石英零部件的清洗的方法, 其特征在于, S3 中去离子水 溢流时长≥3 h。权 利 要 求 书 1/1 页 2 CN 115069636 A 2一种半导体用石英零部件的清洗的方 法 技术领域 [0001]本发明涉及一种半导体用石英零部件的清洗的方法。 背景技术 [0002]石英具有耐高温、 抗腐蚀、 具有优异的机械性能、 光传输效率高等优点, 被广泛应 用于半导体、 光学等行业, 一般会将其先加工成锭、 筒、 棒、 管等形式后再进一步加工。 所应 用的具体方向包括MEMS、 CMOS、 CCD传感器、 微波电路、 物联网阵列和各类激光器件、 光学器 件的加工制造。 相较于传统应用, 石英用于生产半导体用零部件时, 对石英表 面质量要求更 高, 表面的光洁程度要求也更加严苛。 其中包括材料制造、 坯料制备、 精密退火、 多刀切割、 成型加工、 精密磨抛、 成品检验、 清洗包装这些工艺。 石英表面清洗技术的发展, 能够增加石 英设备或器件的使用次数, 提高利用率, 为工业 发展带来更高的经济效益, 同时循环使用也 符合当代社会的环保理念。 近年来伴 随着工业的进步, 石英表面清洗技术得到了一定的发 展, 但传统的清洗技术存在着石英制品表面的金属离子采用普通的清洗剂很难清洗干净, 而残存的金属离子会影响到 半导体用零部件的品质, 而且所使用的试剂会对石英制品具有 一定的腐蚀性。 因此, 对兼顾安全、 环保、 便捷、 高效清洗等特点的清洗技术的需求愈加迫 切。 发明内容 [0003]本发明要解决的技术问题是克服现有技术中半导体用石英零部件表面的金属离 子采用普通的清洗剂 很难清洗干净, 而石英零部件上残存的金属离子会影响到相应产品的 品质的缺陷, 提供一种用于清洗石英的螯合剂使用方法。 [0004]为了解决上述 技术问题, 本发明提供了如下的技 术方案: [0005]一种半导体用石英零部件的清洗的方法, 包括如下步骤: [0006]S1、 首先用去离子水将石英表面冲洗0.5小时, 用过滤后的干燥氮气将石英表面吹 干; [0007]S2、 然后将石英加入含丙烯酸 ‑2‑丙烯酰胺 ‑2‑甲基丙磺酸液和二乙三胺五乙酸液 中的至少一种的螯合剂中浸泡, 浸泡时间为3 0~90min; [0008]S3、 最后再用去离 子水溢流3小时, 得到清洗 干净的石英制品。 [0009]本发明所达到的有益效果是: 通过上述方法清洗石英制品, 不但效果显著, 而且也 十分安全, 同时也降低了成本, 采用去离子水冲洗, 去除石英表面污染物, 采用惰性气体吹 干, 安全系 数高, 又可维持石英表面金属离子的稳定性; 金属螯合剂用于移除金属离子, 而 且丙烯酸 ‑2‑丙烯酰胺 ‑2‑甲基丙磺酸的分散性好, 能更好的捕捉金属 离子形成螯合物; 螯 合剂二乙三胺五乙的加入更有利于金属离子的去除; 而且本发明中形成的螯合物相对比较 弱, 对石英件所产生的腐蚀性 也非常小, 对人体和环境 不会造成危害。说 明 书 1/3 页 3 CN 115069636 A 3

PDF文档 专利 一种半导体用石英零部件的清洗的方法

文档预览
中文文档 5 页 50 下载 1000 浏览 0 评论 0 收藏 3.0分
温馨提示:本文档共5页,可预览 3 页,如浏览全部内容或当前文档出现乱码,可开通会员下载原始文档
专利 一种半导体用石英零部件的清洗的方法 第 1 页 专利 一种半导体用石英零部件的清洗的方法 第 2 页 专利 一种半导体用石英零部件的清洗的方法 第 3 页
下载文档到电脑,方便使用
本文档由 SC 于 2024-02-24 00:47:20上传分享
友情链接
站内资源均来自网友分享或网络收集整理,若无意中侵犯到您的权利,敬请联系我们微信(点击查看客服),我们将及时删除相关资源。