(19)国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202210587229.4 (22)申请日 2022.05.18 (71)申请人 上海图灵智算 量子科技有限公司 地址 201203 上海市浦东 新区芳春路40 0号 1幢3层 (72)发明人 孙宏　 (51)Int.Cl. B08B 3/02(2006.01) B08B 3/08(2006.01) B08B 1/00(2006.01) F26B 5/12(2006.01) F26B 21/00(2006.01) (54)发明名称 光罩版清洁系统 (57)摘要 本发明公开了一种光罩版清洁系统， 用于清 洁光罩版， 所述清洁装置包括： 机架、 第一槽和第 二槽； 所述第一槽设于所述机架， 所述第一槽用 于盛装清洗药液， 所述光罩版浸入清洗药液； 所 述第二槽设于所述机架， 第二槽与所述第一槽间 隔设置， 所述第二槽用于冲洗所述光罩版。 利用 第一槽盛装清洗药液， 并将光罩版浸入清洗药液 中， 从而可以全面、 彻底的溶解污染物， 再利用第 二槽对光罩版进行冲洗， 可以更加彻底的清理光 罩版上的污染物， 可 以避免光罩版残留杂物， 进 而能够提高光刻工艺产品良率， 减少光刻制程缺 陷的产生。 同时， 设置第一槽和第二槽， 可以同步 完成两个光罩版的清洁操作， 能够提高清洁装置 的清洁效率。 权利要求书1页 说明书9页 附图6页 CN 115041447 A 2022.09.13 CN 115041447 A 1.一种光罩版清洁系统， 用于清洁光罩版， 其特征在于， 所述光罩版清洁系统包括清洁 装置及干燥装置， 所述清洁装置用于清洗光罩版， 所述干燥装置用于干燥经所述清洁装置 处理后的所述 光罩版。 2.如权利要求1所述的光 罩版清洁系统， 其特 征在于， 所述清洁装置包括： 机架； 第一槽， 所述第 一槽设于所述机架， 所述第一槽用于盛装清洗药液， 所述光罩版浸入清 洗药液； 第二槽， 所述第 二槽设于所述机架， 第二槽与所述第 一槽间隔设置， 所述第 二槽用于冲 洗所述光罩版。 3.如权利要求2所述的光罩版清洁系统， 其特征在于， 所述清洁装置还包括帘部， 所述 帘部设于所述第一槽， 所述帘部用于喷出清洗液以对所述 光罩版冲洗 。 4.如权利要求3所述的光罩版清洁系统， 其特征在于， 所述帘部包括顺次相连通的进 管、 储液腔及出口， 清洗液经所述进管流入所述储液腔， 清洗液经所述出口喷至所述光罩 版。 5.如权利要求2所述的光罩版清洁系统， 其特征在于， 所述第 一槽的底面与 水平面的夹 角的范围为7 ° ‑25°； 所述第一槽的底面沿所述 光罩版放入的方向 向下倾斜； 所述第二槽的底面与水平面的夹角的范围为7 ° ‑25°； 所述第二槽的底面沿所述光罩版 放入的方向 向下倾斜。 6.如权利要求2所述的光罩版清洁系统， 其特征在于， 所述清洁装置还包括若干支撑 件， 若干所述支撑件间隔设于所述第一槽的底部， 所述 光罩版放置 于所述支撑件的上侧面； 或者， 所述支撑件的上侧面设于防滑台阶； 和/或， 所述清洁装置还 包括矩形槽， 所述矩形槽设于所述第一槽的侧面； 和/或， 所述清洁装置还 包括圆形槽， 所述圆形槽设于所述第一槽的侧面。 7.如权利要求1所述的光 罩版清洁系统， 其特 征在于， 所述干燥装置包括： 箱体， 干燥架， 所述干燥架设于所述箱体内， 所述干燥架用于固定所述 光罩版； 排风部， 所述 排风部用于将所述箱体内的气体排 放置所述箱体的外 部。 8.如权利要求7所述的光罩版清洁系统， 其特征在于， 所述干燥架包括相连接的竖撑部 及底部， 所述底部用于支撑所述光罩版 的下侧边， 所述竖撑部用于支撑所述光罩版 的上侧 边， 所述光罩版斜靠 于所述底部及所述竖撑 部之间。 9.如权利要求7所述的光罩版清洁系统， 其特征在于， 所述干燥装置还包括纵隔板， 所 述纵隔板设于所述箱体内， 所述纵隔板将所述箱体分为前部空间及后部空间， 所述干燥架 设于所述前部空间。 10.如权利要求1 ‑9中任意一项所述的光罩版清洁系统， 其特征在于， 所述干燥装置还 包括送风过滤部， 所述送风过滤部用于过滤空气并将过滤后的空气通入箱体内的前部空 间。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 115041447 A 2光罩版清洁系统 技术领域 [0001]本发明涉及芯片制造领域， 特别涉及一种光 罩版清洁系统。 背景技术 [0002]光罩版也叫光掩膜版、 掩膜版， 光罩版是光刻工艺所使用的图形母版。 光罩版可以 在薄膜、 塑料或玻璃基体材料上制作各种功 能图形并精确定位， 从而便于光致抗蚀剂涂层 选择性曝光。 光罩版应用十分广泛， 涉及光刻工艺的领域几乎都需要使用掩膜版， 如IC (Integrated  Circuit， 集成电路)、 FPD(Fl at Panel Display， 平板显示器)、 PCB(Printed   Circuit Boards， 印刷电路板)、 MEMS(Micro  Electro Mechanical  Systems， 微机电系统) 等。 [0003]在光刻制程过程中， 常常会产生光刻制程灰尘， 光罩版可能会被灰尘或其他原因 污染， 从而影响光刻工艺产品的良率。 发明内容 [0004]本发明要解决的技术问题是为了克服现有技术中光罩版在使用过程中会被污染 的上述缺陷， 提供一种光 罩版清洁系统。 [0005]本发明是通过 下述技术方案来 解决上述 技术问题： [0006]一种光罩版清洁系统， 用于清洁光罩版， 所述光罩版清洁系统包括清洁装置及干 燥装置， 所述清洁装置用于清洗光罩版， 所述干燥装置用于干燥经所述清洁装置处理后的 所述光罩版。 [0007]在本方案中， 通过采用以上结构， 利用光罩版清洁系统的清洁装置对光罩版进行 物理或化学清洗， 然后将清洗后的光罩版放入干燥装置， 利用干燥装置取出光罩版 的残液 液体等杂质， 实现光罩版的清洁， 可以避免光罩版出现杂物或残液， 能够提高光刻工艺产品 良率， 减少光刻制程 缺陷的产生。 [0008]清洗后的光罩版可以放置到干燥架上， 同时利用排风部抽 取箱体内的气体， 从而 带走光罩版上的残 余液体， 实现光罩版的干燥， 可以避免光罩版出现残液， 进而能够提高光 刻工艺产品良率， 减少光刻制程 缺陷的产生。 [0009]较佳地， 所述清洁装置包括机架、 第一槽及第二槽， 所述第一槽设于所述机架， 所 述第一槽用于盛装清洗药液， 所述光罩版浸入清洗药液； 所述第二槽 设于所述机架， 第二槽 与所述第一槽间隔设置， 所述第二槽用于冲洗所述 光罩版。 [0010]在本方案中， 通过采用以上结构， 利用第一槽盛装清洗药液， 并将光罩版浸入清洗 药液中， 从而可以全面、 彻底的溶解污染物， 再利用第二槽对光罩版进行冲洗， 可以更加彻 底的清理光罩版上的污染物， 可以避免光罩版残留杂物， 进而能够提高光刻工艺产品良率， 减少光刻制程缺陷的产生。 同时， 设置第一槽和 第二槽， 可以同步完成两个光罩版的清洁操 作， 能够提高清洁装置的清洁效率。 [0011]较佳地， 所述清洁装置还包括帘部， 所述帘部设于所述第一槽， 所述帘部用于喷出说　明　书 1/9 页 3 CN 115041447 A 3