(19)国家知识产权局 (12)发明 专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202211094862.6 (22)申请日 2022.09.08 (65)同一申请的已公布的文献号 申请公布号 CN 115186623 A (43)申请公布日 2022.10.14 (73)专利权人 中科卓芯 半导体科技 （苏州） 有限 公司 地址 215600 江苏省苏州市张家港市塘桥 镇妙桥科创路东城科技创业园C幢底 楼 (72)发明人 杨伟　谢双军　 (74)专利代理 机构 苏州润桐嘉 业知识产权代理 有限公司 32 261 专利代理师 李蓉蓉(51)Int.Cl. G06F 30/398(2020.01) G06T 17/00(2006.01) (56)对比文件 CN 103792785 A,2014.0 5.14 CN 114757517 A,202 2.07.15 CN 114820551 A,202 2.07.29 审查员 朱琳玲 (54)发明名称 一种精密掩膜版的设计分析方法及系统 (57)摘要 本发明提供了一种精密掩膜版的设计分析 方法及系统， 涉及数字处理技术领域， 方法包括： 采集目标掩膜版设计图纸信息， 进行解析， 得到 解析数据； 进行图纸约束公差分析， 获得图纸分 级区域； 设定辅助定位检测点； 构建三维拟合模 型， 结合设定辅助定位检测点进行制造拟合， 获 得第一拟合结果； 通过图像采集装置进行生产目 标掩膜版的图像采集， 基于图像采集结果获得第 一反馈结果； 结合第一拟合结果生成优化反馈数 据， 进行辅助定位检测点的优化分布。 解决了无 法进行掩膜版加工过程准确定位， 进而导致无法 准确控制精度的技术问题， 达到了提高关键尺寸 识别定位精度， 实现关键尺寸准确定位和生产的 技术效果。 权利要求书2页 说明书10页 附图2页 CN 115186623 B 2022.12.16 CN 115186623 B 1.一种精密掩膜版的设计分析方法， 其特征在于， 所述方法应用于优化分析系统， 所述 优化分析系统与图像采集装置通信连接， 所述方法包括： 采集目标掩膜版设计图纸信息， 并对所述目标掩膜版设计图纸信息进行解析， 得到解 析数据； 基于所述 解析数据进行图纸约束公差分析， 根据分析 结果获得图纸分级区域； 通过所述图纸分级区域设定辅助定位检测点， 其中， 所述辅助定位检测点包括定位检 测点和定位验证点； 通过所述目标掩膜版设计图纸信 息构建三维拟合模型， 基于所述三维拟合模型和所述 设定辅助定位检测点进行制造拟合， 获得第一拟合结果； 通过所述图像采集装置进行生产目标掩膜版的图像采集， 基于图像采集结果获得第 一 反馈结果； 根据所述第 一拟合结果和所述第 一反馈结果生成优化反馈数据， 基于所述优化反馈数 据进行所述辅助定位检测点的优化分布； 基于所述第一拟合结果进行定位方向确定 评价， 生成定位方向确定反馈约束参数； 通过所述第一拟合结果进行定位复杂度评价， 生成定位复杂度反馈调整参数； 通过所述定位方向确定反馈约束参数和所述定位复杂度反馈调整参数生成所述优化 反馈数据。 2.如权利要求1所述的方法， 其特 征在于， 所述方法还 包括： 根据所述图纸分级区域对图纸区域划分， 基于区域划分结果得到精度控制区域； 基于所述精度控制区域和所述目标掩膜版设计图纸信息获得定位图形的尺寸需求信 息； 基于所述尺寸需求信息设定所述辅助定位检测点。 3.如权利要求2所述的方法， 其特 征在于， 所述方法还 包括： 根据所述区域划分结果确定精度关联区域； 通过所述精度关联区域和所述目标掩膜版设计图纸信息确定关联定位尺寸需求信息； 通过大数据和所述尺寸需求信 息进行所述辅助定位检测点的设定区间约束， 得到组合 辅助定位检测点设定集 合； 通过所述关联定位尺寸需求信 息进行所述组合辅助定位检测点设定集合筛选， 基于筛 选结果获得 所述辅助定位检测点。 4.如权利要求1所述的方法， 其特 征在于， 所述方法还 包括： 根据所述图像采集结果进行所述生产目标掩膜版的尺寸校验， 获得校验过程数据集 合； 对所述校验过程数据集 合进行校验便捷性分析， 生成便捷性约束参数； 基于所述便捷性约束参数获得 所述第一反馈结果。 5.如权利要求 4所述的方法， 其特 征在于， 所述方法还 包括： 根据所述图像采集结果进行所述生产目标掩膜版的生产尺寸优化评价， 获得尺寸优化 评价结果； 基于所述尺寸优化评价结果和所述便捷性约束参数进行所述辅助定位检测点的辅助 性能评价， 生成辅助性能评价结果；权　利　要　求　书 1/2 页 2 CN 115186623 B 2基于所述辅助性能评价结果 生成所述优化反馈数据。 6.如权利要求5所述的方法， 其特 征在于， 所述方法还 包括： 设定辅助性能优化评价阈值； 判断所述辅助性能评价结果是否满足所述辅助性能优化评价阈值； 当所述辅助性能评价结果 不满足所述辅助性能优化评价阈值时， 则获得优化指令； 根据所述优化指令控制所述辅助性能评价结果对应的辅助定位检测点的优化。 7.一种精密掩膜版的设计分析系统， 其特 征在于， 所述系统包括： 数据获取单元， 所述数据获取单元用于采集目标掩膜版设计图纸信息， 并对所述目标 掩膜版设计图纸信息进行解析， 得到解析 数据； 约束公差分析单元， 所述约束公差分析单元用于基于所述解析数据进行图纸约束公差 分析， 根据分析 结果获得图纸分级区域； 辅助定位检测点设定单元， 所述辅助定位检测点设定单元用于通过所述图纸分级区域 设定辅助定位检测点， 其中， 所述辅助定位检测点包括定位检测点和定位验证点； 制造拟合单元， 所述制造拟合单元用于通过所述目标掩膜版设计图纸信 息构建三维拟 合模型， 基于所述三维拟合模型和所述设定辅助定位检测 点进行制 造拟合， 获得第一拟合 结果； 图像采集单元， 所述图像采集单元用于通过图像采集装置进行生产目标掩膜版的图像 采集， 基于图像采集结果获得第一反馈结果； 优化反馈单元， 所述优化反馈单元用于根据 所述第一拟合结果和所述第 一反馈结果生 成优化反馈数据， 基于所述优化反馈数据进行 所述辅助定位检测点的优化分布； 方向确定评价单元， 所述方向确定评价单元用于基于所述第 一拟合结果进行定位方向 确定评价， 生成定位方向确定反馈约束参数； 调整参数生成单元， 所述调整参数生成单元用于通过所述第 一拟合结果进行定位复杂 度评价， 生成定位复杂度反馈调整参数； 反馈数据生成单元， 所述反馈数据生成单元用于通过所述定位方向确定反馈约束参数 和所述定位复杂度反馈调整参数生成所述优化反馈数据。权　利　要　求　书 2/2 页 3 CN 115186623 B 3