(19)国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202210438412.8 (22)申请日 2022.04.25 (71)申请人 嘉兴立鸿科技有限公司 地址 314022 浙江省嘉兴 市南湖区余 新镇 新盛路262号1幢3楼3 06-308室 (72)发明人 陈跃华　卜志超　吴怡平　陈时兴　 (74)专利代理 机构 杭州凌通知识产权代理有限 公司 33316 专利代理师 曾长康 (51)Int.Cl. B08B 3/02(2006.01) B08B 1/02(2006.01) B08B 13/00(2006.01) (54)发明名称 一种晶圆片清洗 机 (57)摘要 本发明公开了一种晶圆片清洗机， 包括架 体， 所述架 体的顶部盖设有 一台面； 第一排水池， 所述第一排水池内设有第一夹持组件； 第二排水 池， 所述第二排水池内设有第二夹持组件； 第三 排水池， 所述第三排水池内设有第三夹持组件； 其中， 所述第一排水池、 第二排水池和第三排水 池依次均设在所述台面上； 所述第一排水池和所 述第二排水池 上通过一往复机构设有擦洗盘； 所 述第一夹持组件、 第二夹持组件和所述第三夹持 组件均通过一驱动机构进行转动； 所述第二排水 池和所述第三排水池上方设有纯水喷头。 通过第 一排水池、 第二排水池和第三排水池的配合使 用； 使得清洗效果显著， 降低了劳动力， 提高了生 产效率。 权利要求书1页 说明书4页 附图5页 CN 114833117 A 2022.08.02 CN 114833117 A 1.一种晶圆片清洗 机， 其特征在于： 包括 架体， 所述架体的顶部 盖设有一台面； 第一排水池， 所述第一 排水池内设有第一夹持组件； 第二排水池， 所述第二 排水池内设有第二夹持组件； 第三排水池， 所述第三 排水池内设有第三夹持组件； 其中， 所述第 一排水池、 第 二排水池和第三排水池依次均设在所述台面上； 所述第一排 水池和所述第二排水池上通过一往复机构设有擦洗盘； 所述第一夹持组件、 第二夹持组件 和所述第三夹持组件均通过一驱动机构进 行转动； 所述第二排水池和所述第三排水池上方 设有纯水喷头。 2.根据权利要求1所述的晶圆片清洗机， 其特征在于： 所述晶圆片清洗机还包括第四排 水池， 所述第四排水池内设有能进行转动的第四夹持组件。 3.根据权利要求1或2所述的晶圆片清洗机， 其特征在于： 所述驱动机构包括设置在所 述架体上的驱动电机 。 4.根据权利要求1或2所述的晶圆片清洗机， 其特征在于： 所述往复机构包括设置在所 述架体一侧呈上下同轴设置的安装架、 转动设置在所述安装架之间的竖杆、 一端设置在所 述竖杆顶部的摆臂、 与所述摆臂远离所述竖杆一端转动连接的调节杆、 通过一设置在位于 顶部所述安装架上的 限位座、 一端与所述调节杆连接另一端与所述擦洗盘连接且穿插在所 述限位座上的往复杆和用于所述竖 杆转动的驱动结构。 5.根据权利要求3所述的晶圆片清洗机， 其特征在于： 所述往 复机构包括设置在所述架 体一侧呈上下同轴设置的安装架、 转动设置在所述安装架之间的竖杆、 一端设置在所述竖 杆顶部的摆臂、 与所述摆臂远离所述竖杆一端转动连接的调节杆、 通过一设置在位于顶部 所述安装架上的 限位座、 一端与所述调节杆连接另一端与所述擦洗盘连接且穿插在所述限 位座上的往复杆和用于所述竖 杆转动的驱动结构。 6.根据权利要求5所述的晶圆片清洗机， 其特征在于： 所述驱动结构包括设置在所述竖 杆上的从动轮、 设置在所述驱动电机的传动轴上的主动轮和用于连接所述从动轮和所述主 动轮的皮带。 7.根据权利要求1或2所述的晶圆片清洗机， 其特征在于： 所述第一夹持组件包括用于 放置所述晶圆片的托盘、 均匀设置在所述第一排水池周侧的连接支架和设置在所述连接支 架上的限位 块。 8.根据权利要求4所述的晶圆片清洗机， 其特征在于： 所述第 一夹持组件包括用于放置 所述晶圆片的托盘、 均匀设置在所述第一排水池周侧的连接支架和设置在所述连接支架上 的限位块。 9.根据权利要求1或2所述的晶圆片清洗机， 其特征在于： 所述第三夹持组件呈倾斜设 置。 10.根据权利要求4所述的晶圆片清洗机， 其特征在于： 所述往复杆包括插接在所述限 位座内的限位杆和与所述限位杆转动连接的延伸杆； 所述擦洗盘通过一万向球悬设在所述 延伸杆的端部 。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 114833117 A 2一种晶圆片清洗机 技术领域 [0001]本发明涉及晶圆片装置领域， 尤其是一种晶圆片清洗 机。 背景技术 [0002]在光学玻璃及半导体 晶圆生产领域， 需要对研磨抛光后的产品进行清洗， 传统的 清洗方式有超声波清洗， 纯水喷淋清洗等， 根据材料的特质， 有 些材料超声波清洗容易对片 面产生损伤， 而喷淋清洗又往 往很难清洗 干净。 [0003]例如， 在中国专利文献上公开的 “一种晶圆片清洗装置和清洗方法 ”， 其公告号为 CN112916500A。 在该专利中， 公开了一种晶圆片清洗装置， 包括清洗室， 所述清洗室内装有 液态的硅片清洁液； 还包括主控器； 所述清洗 室的两个相对面的侧壁之间横向设置喷淋管， 所述喷淋管与所述清洗室内壁滑动连接； 所述喷淋管的底部开设一排直线型的若干喷淋 孔， 所述硅片清洁液在所述喷淋管内流通并从所述喷淋孔喷射出来； 所述清洗室内还设有 与所述主控器电性连接并受所述主控器电性控制的电动气缸， 所述电动 气缸的推动杆竖直 向上， 所述推动杆与圆形 的晶圆片基座固定连接， 所述晶圆片基座在所述推动杆的带动下 在竖直方向上移动。 该专利中， 通过喷淋清洗， 清洗不干净， 且工作效率低下。 发明内容 [0004]为了解决上述技术问题， 本发明提供了一种通过第一排水池、 第二排水池和第三 排水池的配合使用； 使得清洗效果显著， 降低了劳动力， 提高了生产效率。 [0005]为了解决上述 技术问题， 本发明是通过以下技 术方案实现的： [0006]一种晶圆片清洗机， 包括架体， 所述架体 的顶部盖设有一台面； 第一排水池， 所述 第一排水池内设有第一夹持组件； 第二排水池， 所述第二排水池内设有第二夹持组件； 第三 排水池， 所述第三排水池内设有第三夹持组件； 其中， 所述第一排水池、 第二排水池和第三 排水池依次均设在所述台面上； 所述第一排水池和所述第二排水池上通过一往复机构设有 擦洗盘； 所述第一夹持组件、 第二夹持组件和所述第三夹持组件均通过一驱动机构进行转 动； 所述第二排水池和所述第三排水池 上方设有 纯水喷头。 上述第一排水池、 第二排水池和 第三排水池依次均匀设置在上述台面上， 能够分别进 行不同步骤的清洗， 提高了清洗效率； 且通过设置的第一夹持组件、 第二夹持组件和第三夹持组件的设置， 能够有效对晶圆片进 行夹持， 保证清洗工程中的稳定， 保证清洗质量， 上述第一排水池和上述第二排水池上方通 过往复机构设有擦洗盘， 待清洗晶圆片设置在上述擦洗盘和上述对应的夹持组件中间， 同 时， 上述第一夹持组件、 第二夹持组件和第三夹持组件在驱动结构的驱动下能够进 行转动， 即就是在清洗过程中晶圆片进行转动， 同时擦洗盘进行往复运动对晶圆片进行擦洗， 能够 有效的对晶圆片的每个地方进行擦洗， 保证了清洗质量。 通过上述三个排水池的设置进行 不同清洗步骤提高了清洁效率。 [0007]进一步的， 所述晶圆片清洗机还包括第四排水池， 所述第四排水池内设有能进行 转动的第四夹持组件。 提高了 工作效率。说　明　书 1/4 页 3 CN 114833117 A 3