(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202123420 685.X (22)申请日 2021.12.3 0 (73)专利权人 武汉劲野科技有限公司 地址 430000 湖北省武汉市黄陂区前川街 鲁台蒋家山 (72)发明人 杨将　张海　肖宗慧　 (74)专利代理 机构 武汉华强专利代理事务所 (普通合伙) 42237 专利代理师 康晨 (51)Int.Cl. C23C 16/00(2006.01) C23C 18/02(2006.01) B08B 9/087(2006.01) F16F 15/023(2006.01) F16F 15/067(2006.01) (54)实用新型名称 一种雾化辅助CVD薄膜沉积装置 (57)摘要 本实用新型公开了一种雾化辅助CVD薄膜沉 积装置， 包括底座， 所述底座的上侧壁对称固定 连接有固定杆， 两个所述固定杆的外壁均滑动套 设有套筒， 位于同一侧的所述套筒的内顶壁和固 定杆的顶端之间均固定连接有弹簧， 两个所述套 筒的上顶 壁共同固定连接有镀膜槽， 两个所述套 筒相对的一侧均转动连接有转杆。 本实用新型通 过转杆将 部分振动能量传递至缓冲板， 并通过阻 尼液进行吸收振动能量， 从而避免长期振动对设 备造成损坏， 而影响使用寿命， 冷凝设备和弯曲 的冷凝管的配合使用， 可以快速对镀膜槽进行降 温， 从而提高冷凝效率， 以及刮板向相反方向移 动， 移动的过程， 刮板将镀膜槽底部的沉积物推 挤到一块， 从而完成对镀膜槽的清扫。 权利要求书1页 说明书3页 附图1页 CN 217026066 U 2022.07.22 CN 217026066 U 1.一种雾化辅助CVD薄膜沉积装置， 包括底座(1)， 其特征在于， 所述底座(1)的上侧壁 对称固定连接有固定杆(2)， 两个所述固定杆(2)的外壁均滑动套设有套筒(3)， 位于同一侧 的所述套筒(3)的内顶壁和固定杆(2)的顶端之间均固定连接有弹簧， 两个所述套筒(3)的 上顶壁共同固定连接有镀膜槽(9)， 两个所述套筒(3)相对的一侧均转动连接有转杆(5)， 所 述底座(1)上设置有缓冲机构， 所述底座(1)的右端上侧壁固定连接有支撑杆(10)， 所述支 撑杆(10)的顶端安装有冷凝设备(11)， 所述镀膜槽(9)的外壁一周固定连接有冷凝管(13)， 所述冷凝 设备(11)的输入端和输出端均固定连接有 连接管(12)， 两个所述连接管(12)分别 和冷凝管(13)端部固定连接， 所述镀膜槽(9)的内壁转动连接有螺纹杆(14)， 所述螺纹杆 (14)的外壁固定套设有蜗轮(15)， 所述镀膜槽(9)的右侧内壁固定连接有电机(16)， 电机 (16)的驱动端固定连接有与蜗轮(15)相啮合的蜗杆(17)， 所述螺纹杆(14)的外壁对称 螺纹 连接有刮板(18)。 2.根据权利要求1所述的一种雾化辅助CVD薄膜沉积装置， 其特征在于， 所述缓冲机构 包括固定连接在底座(1)上侧壁的密封管(4)， 所述密封管(4)的两端均滑动插设有延伸至 密封管(4)内部的插杆(6)， 两个所述插 杆(6)相对的一端均固定连接有与密封管(4)内壁滑 动连接的缓冲板(7)， 位于同一侧的所述插杆(6)和转杆(5)之间转动连接 。 3.根据权利要求2所述的一种雾化辅助CVD薄膜沉积装置， 其特征在于， 两个所述缓冲 板(7)上均匀开设有 多个通孔。 4.根据权利 要求2所述的一种雾化辅助CVD薄膜沉积装置， 其特征在于， 所述密封管(4) 内填充有阻尼液(8)。 5.根据权利 要求1所述的一种雾化辅助CVD薄膜沉积装置， 其特征在于， 所述镀膜槽(9) 的内壁固定嵌设有轴承， 两个所述轴承的内圈均和螺纹杆(14)的外壁固定连接 。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 217026066 U 2一种雾化辅助CVD 薄膜沉积装 置 技术领域 [0001]本实用新型 涉及薄膜制造技 术领域， 尤其涉及一种雾化辅助CVD薄膜沉积装置 。 背景技术 [0002]薄膜材料具有广泛的用途， 现有的镀膜方法主要有化学气相沉积法(简称CVD)和 物理气相沉积法(简称PVD)这两大类， 且每一类镀膜方法又因为材料特征等因素而细分出 很多小类的镀膜方法。 目前， 常规的CVD沉积法前驱体为全气相物， 输入到反应装置的反应 区受热或受到其他物理场的激发后发生化学反应， 并沉积在衬底表 面， 且CVD方法适合制备 高质量的薄膜， 但是成本高， 薄膜沉积 速度慢， 大部 分CVD工艺需要在真空环 境下进行。 衬底 有多种结构， 比如平面衬底和非平面衬底， 目前平面衬底常常直接放置在反应区的底平面 上。 [0003]另外， 目前还有一种热解喷涂 的方法用于在衬底上制 备薄膜， 这种方法一般先将 前驱体物质配置为混合溶液， 再置于雾化源中， 雾化源雾化成气溶胶后再将液体气溶胶输 入反应室后在反应区发生热解反应， 进而在衬底表面镀膜。 热解喷涂方法制备 的薄膜质量 一般， 但成膜速度快、 效率高、 在常压下进行， 成本低。 [0004]现有的雾化辅助CVD薄膜沉积装置中镀膜槽内部经常堆积大量的沉积物， 采用人 工清理， 工作量大， 而且效率低， 此外镀膜槽不具备一定的减震功能， 长期的振动， 会影响设 备的使用寿命。 [0005]为此， 提出一种雾化辅助CVD薄膜沉积装置 。 实用新型内容 [0006]本实用新型的目的是为了解决背景技术中的问题， 而提出的一种雾化辅助CVD薄 膜沉积装置 。 [0007]为了实现上述目的， 本实用新型采用了如下技 术方案： [0008]一种雾化辅助CVD薄膜沉积装置， 包括底座， 所述底座的上侧壁对称固定连接有固 定杆， 两个所述固定杆的外壁均滑动套设有套筒， 位于同一侧的所述套筒的内顶壁和固定 杆的顶端之间均固定连接有弹簧， 两个所述套筒的上顶壁共同固定连接有镀膜槽， 两个所 述套筒相对的一侧均转动连接有转杆， 所述底座上设置有缓冲机构， 所述底座的右端上侧 壁固定连接有支撑杆， 所述支撑杆的顶端安装有冷凝设备， 所述镀膜槽的外壁一周固定连 接有冷凝管， 所述冷凝设备 的输入端和输出端均固定连接有连接管， 两个所述连接管分别 和冷凝管端部固定连接， 所述镀膜槽的内壁转动连接有螺纹杆， 所述螺纹杆 的外壁固定套 设有蜗轮， 所述镀膜槽的右侧内壁固定连接有电机， 电机的驱动端固定连接有与蜗轮相啮 合的蜗杆， 所述螺纹杆的外壁对称螺纹连接有刮板 。 [0009]优选地， 所述缓冲机构包括固定连接在底座上侧壁的密封管， 所述密封管的两端 均滑动插设有延伸至密封管内部的插杆， 两个所述插杆相对的一端均固定连接有与密封管 内壁滑动连接的缓冲板， 位于同一侧的所述插杆和转杆之间转动连接 。说　明　书 1/3 页 3 CN 217026066 U 3