(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 2021234286 01.7 (22)申请日 2021.12.31 (73)专利权人 至微半导体 （上海） 有限公司 地址 200241 上海市闵行区紫海路170号1 幢3层03室 (72)发明人 廖世保　邓信甫　杨嘉斌　林忠宝　 (74)专利代理 机构 上海申新 律师事务所 31272 专利代理师 竺路玲 (51)Int.Cl. B08B 13/00(2006.01) B08B 3/02(2006.01) H01L 21/67(2006.01) (54)实用新型名称 一种实现梯度结构的蚀刻反应的单晶圆清 洗设备 (57)摘要 本实用新型公开了一种实现梯度结构的蚀 刻反应的单晶圆清洗设备， 涉及到清洗设备的技 术领域， 包括安装板、 喷淋机构、 支撑机构及废液 收集机构， 安装板上端设有四喷淋机构， 四喷淋 机构之间设有废液收集机构， 每一喷淋机构上均 设有一支撑机构； 每一喷淋机构包括支撑架、 连 接杆及喷头， 安装板的上端设有支撑架， 支撑架 靠近废液收集机构的一侧设有连接杆， 连接杆的 下端可转动地设有喷头， 喷头呈阶梯状设置； 每 一喷头均包括第一出液口、 第二出液口及第三出 液口， 第二出液口的一侧设有第一出液口， 第二 出液口的另一侧设有第三出液口。 通过梯形度及 可全方位旋转的设计使得喷淋出的溶液与晶体 更全面的反应， 使得晶体的侧边及下端也可与溶 液反应。 权利要求书1页 说明书4页 附图2页 CN 217474373 U 2022.09.23 CN 217474373 U 1.一种实现梯度 结构的蚀刻 反应的单晶圆清洗设备， 其特征在于， 包括安装板、 喷淋机 构、 支撑机构及废液收集机构， 所述安装板的上端设有四所述喷淋机构， 四所述喷淋机构之 间设有所述废液收集机构， 每一所述喷淋机构上均设有一所述支撑 机构； 每一所述喷淋机构包括支撑架、 连接杆及喷头， 所述安装板的上端设有所述支撑架， 所 述支撑架靠近所述废液收集机构的一侧设有 所述连接杆， 所述连接杆的下端 可转动地设有 所述喷头， 所述喷头呈阶梯状设置； 每一所述喷头均包括第一出液口、 第二出液口及第三出液口， 所述第二出液口的一侧 设有所述第一出 液口， 所述第二出 液口的另一侧设有所述第三出 液口。 2.如权利要求1所述的一种实现梯度 结构的蚀刻 反应的单晶圆清洗设备， 其特征在于， 所述支撑架及所述连接杆内部设有连接管， 所述连接管与所述第一出液 口、 所述第二出液 口及所述第三出 液口连通， 所述连接管用于提供 溶液。 3.如权利要求2所述的一种实现梯度 结构的蚀刻 反应的单晶圆清洗设备， 其特征在于， 所述第一出液 口、 所述第二出液 口及所述第三出液 口与所述连接杆通过转轴连接， 所述连 接杆的下端开设有安装孔， 所述 安装孔内设有弹簧， 所述弹簧与所述 转轴连接 。 4.如权利要求3所述的一种实现梯度 结构的蚀刻 反应的单晶圆清洗设备， 其特征在于， 所述安装孔内还设有转动电机， 所述 转动电机的伸缩杆穿设过 所述弹簧与所述 转轴连接 。 5.如权利要求1所述的一种实现梯度 结构的蚀刻 反应的单晶圆清洗设备， 其特征在于， 每一所述支撑机构均包括伸缩油缸及固定盘， 所述支撑架上开设有放置槽， 所述放置槽的 内底壁设有一所述伸缩油缸， 所述伸缩油缸部分伸出所述放置槽， 所述伸缩油缸远离所述 支撑架的一侧设有一所述固定盘， 所述固定盘与所述伸缩油缸的伸缩杆 连接。 6.如权利要求1所述的一种实现梯度 结构的蚀刻 反应的单晶圆清洗设备， 其特征在于， 所述废液收集机构包括收集箱， 所述安装板的上端设有支撑杆， 所述支撑杆 的上端设有所 述收集箱， 所述收集箱上开设有清洗腔体。 7.如权利要求6所述的一种实现梯度 结构的蚀刻 反应的单晶圆清洗设备， 其特征在于， 所述收集箱的底部开设有通 孔， 所述通孔与所述清洗腔体连通。 8.如权利要求7所述的一种实现梯度 结构的蚀刻 反应的单晶圆清洗设备， 其特征在于， 所述收集箱的下端设有引流管， 所述引流管与所述 通孔相连通。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 217474373 U 2一种实现梯度结构的蚀刻反 应的单晶圆清洗设 备 技术领域 [0001]本实用新型涉及到清洗设备的技术领域， 尤其涉及到一种实现梯度结构的蚀刻反 应的单晶圆清洗设备。 背景技术 [0002]现如今的单晶圆清洗设备喷淋出的溶液只能与晶体的上端进行反应， 而晶体的其 余位置无法与喷淋出的溶液反应， 导致晶体的反应不全面， 上端反应迅速， 而有 些位置无法 喷淋到溶 液， 使用起 来非常不便 。 实用新型内容 [0003]本实用新型的目的在于提供一种实现梯度结构的蚀刻反应的单晶圆清洗设备， 用 于解决上述 技术问题。 [0004]本实用新型采用的技 术方案如下： [0005]一种实现梯度结构的蚀刻反应的单晶圆清洗设备， 包括安装板、 喷淋机构、 支撑机 构及废液收集机构， 所述安装板的上端设有四所述喷淋机构， 四所述喷淋机构之间设有所 述废液收集机构， 每一所述喷淋机构上均设有一所述支撑 机构； [0006]每一所述喷淋机构包括支撑架、 连接杆及喷头， 所述安装板 的上端设有所述支撑 架， 所述支撑架靠近所述废液收集机构的一侧设有所述连接杆， 所述连接杆 的下端可转动 地设有所述喷头， 所述喷头呈阶梯状设置； [0007]每一所述喷头均包括第一出液口、 第二出液口及第三出液口， 所述第二出液口的 一侧设有所述第一出 液口， 所述第二出 液口的另一侧设有所述第三出 液口。 [0008]作为优选， 所述支撑架及所述连接杆内部设有连接管， 所述连接管与所述第一出 液口、 所述第二出 液口及所述第三出 液口连通， 所述连接管用于提供 溶液。 [0009]作为进一步的优选， 所述第一出液口、 所述第二出液口及所述第三出液口与所述 连接杆通过转轴连接， 所述连接杆的下端开设有安装孔， 所述安装孔内设有弹簧， 所述 弹簧 与所述转轴连接 。 [0010]作为进一步的优选， 所述安装孔内还设有转动电机， 所述转动电机 的伸缩杆穿设 过所述弹簧与所述 转轴连接 。 [0011]作为优选， 每一所述支撑机构均包括伸缩油缸及固定盘， 所述支撑架上开设有放 置槽， 所述放置槽的内底壁设有一所述伸缩油缸， 所述伸缩油缸部 分伸出所述放置槽， 所述 伸缩油缸远离所述支撑架的一侧设有一所述固定盘， 所述固定盘与所述伸缩油缸的伸缩杆 连接。 [0012]作为优选， 所述废液收集机构包括收集箱， 所述安装板的上端设有支撑杆， 所述支 撑杆的上端设有所述收集箱， 所述收集箱上开设有清洗腔体。 [0013]作为进一步的优选， 所述收集箱的底部开设有通孔， 所述通孔与所述清洗腔体连 通。说　明　书 1/4 页 3 CN 217474373 U 3